信越工程株式会社大谷义和获国家专利权
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龙图腾网获悉信越工程株式会社申请的专利激光照射系统、激光加工系统以及曝光系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223955951U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520132966.4，技术领域涉及：G03F7/20；该实用新型激光照射系统、激光加工系统以及曝光系统是由大谷义和;山冈裕;仓田昌実;宇佐美健人设计研发完成，并于2024-04-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本激光照射系统、激光加工系统以及曝光系统在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种激光照射系统、激光加工系统以及曝光系统，能够抑制因掩模的自重造成的挠曲的影响而以高精度进行激光照射，而且也能够抑制灰尘向掩模面的附着。激光照射系统包括第一光学功能部与第二光学功能部，第一光学功能部包括激光光源，第二光学功能部用于设置具有与被照射体的激光照射区域对应的图案的掩模，激光照射系统用于将激光经由掩模照射至被照射体，其中掩模包含具有与被照射体的激光照射区域对应的图案的有效区域，四边形的掩模的外缘即四边中的最长的边的长度与有效区域的激光透射方向的厚度之比为100以上，在第二光学功能部中，掩模被配置成，掩模的外缘即四边中的相对的两边相对于设置激光照射系统的面成为大致垂直方向。
本实用新型激光照射系统、激光加工系统以及曝光系统在权利要求书中公布了：1.一种激光照射系统，包括第一光学功能部与第二光学功能部，所述第一光学功能部包括激光光源，所述第二光学功能部设置有与被照射体的激光照射区域对应的图案的掩模，所述激光照射系统将来自所述激光光源的激光经由设置于所述第二光学功能部的所述掩模照射至所述被照射体，所述激光照射系统，其特征在于， 所述第二光学功能部的所述掩模对应于所述第一光学功能部的所述激光光源而来的激光束的行进方向， 所述掩模包含具有与所述被照射体的激光照射区域对应的图案的有效区域，且四边形的所述掩模的外缘即四边中的最长的边的长度与所述有效区域的激光透射方向的厚度之比为100以上， 在所述第二光学功能部中，所述掩模被配置成，所述掩模的外缘即四边中的相对的两边相对于设置所述激光照射系统的面成为大致垂直方向， 通过所述第二光学功能部的所述激光束不改变行进方向而照射所述被照射体。
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