浙江创芯集成电路有限公司陈阳获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江创芯集成电路有限公司申请的专利一种半导体工艺腔室及半导体设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223966811U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520806823.7，技术领域涉及：G03F7/16；该实用新型一种半导体工艺腔室及半导体设备是由陈阳设计研发完成，并于2025-04-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种半导体工艺腔室及半导体设备在说明书摘要公布了：本申请实施例提供了一种半导体工艺腔室及半导体设备，其中，所述半导体工艺腔室，包括：旋涂腔体，用于在晶圆上旋涂光刻胶；设置于所述旋涂腔体侧壁的腔体门，用于使传送臂通过所述腔体门取送晶圆；设置于所述腔体门远离所述旋涂腔体的方向的气体对流装置，所述气体对流装置在所述腔体门开启时启动，通过所述气体对流装置形成的气流在所述腔体门处形成气密屏障，以阻止所述旋涂腔体内的有机蒸汽外溢。本申请实施例能够提高晶圆的处理效果。
本实用新型一种半导体工艺腔室及半导体设备在权利要求书中公布了：1.一种半导体工艺腔室，其特征在于，包括： 旋涂腔体，用于在晶圆上旋涂光刻胶； 设置于所述旋涂腔体侧壁的腔体门，用于使传送臂通过所述腔体门取送晶圆； 设置于所述腔体门远离所述旋涂腔体的方向的气体对流装置，所述气体对流装置在所述腔体门开启时启动，通过所述气体对流装置形成的气流在所述腔体门处形成气密屏障，以阻止所述旋涂腔体内的有机蒸汽外溢。
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