北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司闫月获国家专利权
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龙图腾网获悉北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司申请的专利聚焦环结构、以及等离子体设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223967186U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520526208.0，技术领域涉及：H01J37/32；该实用新型聚焦环结构、以及等离子体设备是由闫月;马恩宇;陈志飞;段昧存设计研发完成，并于2025-03-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本聚焦环结构、以及等离子体设备在说明书摘要公布了：一种聚焦环结构、以及等离子体设备，应用于等离子体设备的聚焦环结构包括：第一聚焦环，用于固定设置在基座上；第二聚焦环，包括位于第一聚焦环顶部的主体部和突出于主体底面且位于第一聚焦环两侧的延伸部，延伸部和主体部围成凹槽，在高度调节的预设行程范围内，凹槽至少容纳部分的第一聚焦环；升降组件，设置于第二聚焦环底部，用于在高度调节的预设行程范围内调节主体部底面与第一聚焦环顶面之间的距离。调节主体部底面与第一聚焦环顶面之间距离的过程中，延伸部侧壁与第一聚焦环侧壁始终有接触的部分，使得第二聚焦环上的电荷能通过第一聚焦环传导到基座上，第二聚焦环与基座之间不易形成电势差，降低了因电势差而导致电弧放电的概率。
本实用新型聚焦环结构、以及等离子体设备在权利要求书中公布了：1.一种聚焦环结构，其特征在于，应用于等离子体设备，包括： 第一聚焦环，用于固定设置在所述等离子体设备的基座上； 第二聚焦环，包括位于所述第一聚焦环顶部的主体部、以及突出于所述主体部的底面且位于所述第一聚焦环两侧的延伸部，所述延伸部和所述主体部围成凹槽，在高度调节的预设行程范围内，所述凹槽至少容纳部分的所述第一聚焦环，以使所述凹槽的侧壁与所述第一聚焦环的侧壁相接触； 升降组件，设置于所述第二聚焦环的底部，所述升降组件用于在所述高度调节的预设行程范围内调节所述主体部底面与所述第一聚焦环顶面之间的距离。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司，其通讯地址为：102600 北京市大兴区北京经济技术开发区核心区34M3、42M2、34M4地块；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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