ASML荷兰有限公司A·沙菲科夫获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利用于EUV光刻的表膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113646697B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080027740.8，技术领域涉及：G03F1/62；该发明授权用于EUV光刻的表膜是由A·沙菲科夫;F·毕爵柯克;B·斯科林克;J·M·斯特姆;R·W·E·范德克鲁伊爵斯设计研发完成，并于2020-03-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于EUV光刻的表膜在说明书摘要公布了：一种用于制造用于EVU光刻的表膜的方法，所述方法包括：将牺牲层沉积到衬底上；蚀刻掉所述衬底的部分，以暴露所述牺牲层的部分；将芯层沉积到所述牺牲层上，所述芯层在制造后形成所述表膜的隔膜的芯部分；以及蚀刻掉所述牺牲层的部分，以暴露所述芯层的部分；其中所述芯层在所述衬底的所述蚀刻之后被沉积。
本发明授权用于EUV光刻的表膜在权利要求书中公布了：1.一种用于制造用于EVU光刻的表膜的方法，所述方法包括： 将牺牲层沉积到衬底上； 蚀刻掉所述衬底的部分，以暴露所述牺牲层的部分； 将芯层沉积到所述牺牲层上，所述芯层一旦被制造则形成所述表膜的隔膜的芯部分；以及 蚀刻掉所述牺牲层的部分，以暴露所述芯层的部分； 其中所述芯层在所述衬底的所述蚀刻之后被沉积， 其中所述芯层形成所述表膜的隔膜的芯部，使得所形成的所述表膜的隔膜是平面的。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人ASML荷兰有限公司，其通讯地址为：荷兰维德霍温；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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