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龙图腾网获悉上海交通大学医学院附属第九人民医院申请的专利一种腭中缝成熟度分期方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118750020B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410753441.2，技术领域涉及：A61B6/51；该发明授权一种腭中缝成熟度分期方法及系统是由江凌勇;郑美里;章文益;朱妍菲;吕政展设计研发完成，并于2024-06-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种腭中缝成熟度分期方法及系统在说明书摘要公布了：本发明提供了一种腭中缝成熟度分期方法及系统，方法包括：S1、获取受试者的CBCT影像；S2、伪彩化处理，基于互补色编码法则及腭中缝区域骨密度范围特征，编辑每个区间HU值对应各个RGB三原色数值，且根据HU值定义低密度区和高密度区，以获得伪彩化影像；S3、设定薄层重组范围值；S4、在受试者冠状面和矢状面视图上，调整头位使横断面穿过硬腭中心；在横断面视图上，调整矢状面过ANS点与PNS点；S5、截取前、后部冠状面观察平面；S6、利用获取的前部和后部冠状面观察平面评价腭中缝成熟度并进行分期；本发明的方法和装置可以评估患者的腭中缝成熟度，辅助医生对复杂多样的扩弓方案进行决策，减少扩弓的失败率及医源性创伤。

本发明授权一种腭中缝成熟度分期方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种腭中缝成熟度分期方法，其特征在于，包括以下步骤： S1、获取受试者头部处于自然头位，咬合处于牙尖交错位状态下的CBCT影像； S2、伪彩化处理，基于互补色编码法则及腭中缝区域骨密度范围特征，编辑每个区间HU值对应各个RGB三原色数值，且根据HU值定义低密度区和高密度区，以获得伪彩化影像； S3、设定薄层重组范围值，利用薄层重组方法将矢状面层厚调整至2.0-2.5mm，横断面层厚调整至5.0-5.5mm，冠状面层厚调整至5.0-5.5mm； S4、在受试者冠状面和矢状面视图上，调整头位使横断面穿过硬腭中心；在横断面视图上，调整矢状面过ANS点与PNS点； S5、利用横断面确定横腭缝位置，在横断面视图上，将冠状面分别定位于横腭缝前与后2.5-3mm处，截取前部和后部冠状面观察平面； S6、利用获取的前部和后部冠状面观察平面评价腭中缝成熟度并进行分期; 步骤S6包括：前部和后部冠状面均可被划分为贯通型、半骨化闭合型、骨化闭合型三种状态，腭骨间及腭骨与犁骨间均未闭则称为贯通型；腭中缝垂直向单侧开放的定义为半骨化闭合型；腭中缝犁骨侧与腭侧均发生骨化闭合则定义为骨化闭合型。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人上海交通大学医学院附属第九人民医院，其通讯地址为：200011 上海市黄浦区制造局路639号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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