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龙图腾网获悉北京光合声智能科技有限公司申请的专利一种基于可塑电磁波光场叠加分布式成像的方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119758587B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411778679.7，技术领域涉及：G02B27/00；该发明授权一种基于可塑电磁波光场叠加分布式成像的方法及装置是由任志忠设计研发完成，并于2024-12-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于可塑电磁波光场叠加分布式成像的方法及装置在说明书摘要公布了：本发明实施例提供一种基于可塑电磁波光场叠加分布式成像的方法及装置，属于光学与光电子学领域，该方法包括：获取待测画面；对所述待测画面进行解析分类得到效应参数信息，所述效应参数信息包括电磁特性和干扰因素；根据所述效应参数信息确定可塑波元件和光场调控参数；根据所述可塑波元件和光场调控参数生成可塑波矩阵，所述可塑波矩阵为多个可塑波元件组成的电磁矩阵，用于生成光场；根据所述光场调控参数对可塑波矩阵进行聚集得到聚焦参数；根据所述聚焦参数设置所述可塑波元件得到区域性光效应对应的画面，该方法实现了对不同物体、画面部分区域的分别成像。

本发明授权一种基于可塑电磁波光场叠加分布式成像的方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种基于可塑电磁波光场叠加分布式成像的方法，其特征在于，该方法包括： 获取待测画面； 对所述待测画面进行解析分类得到效应参数信息，所述效应参数信息包括电磁特性和干扰因素； 根据所述效应参数信息确定可塑波元件和光场调控参数； 根据所述可塑波元件和光场调控参数生成可塑波矩阵，所述可塑波矩阵为多个可塑波元件组成的电磁矩阵，用于生成光场； 根据所述光场调控参数对可塑波矩阵进行聚集得到聚焦参数，所述聚焦参数为聚焦点的位置、焦距、光斑大小； 根据所述聚焦参数设置所述可塑波元件得到区域性光效应对应的画面； 所述可塑波元件包括发射光源、镜片及用于处理光的光栅； 所述光场调控参数包括光场的振幅、相位、偏振状态及空间分布； 所述效应参数信息包括振幅、相位、频率及偏振状态； 所述根据所述可塑波元件和光场调控参数生成可塑波矩阵，包括： 根据光场调控参数调控多个可塑波元件的强度分布、相位分布和偏振状态； 利用多个可塑波元件的电磁波叠加得到目标光场，所述多个可塑波元件组成可塑波矩阵。

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