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龙图腾网获悉哈尔滨工业大学申请的专利基于等效梯度折射率匹配及相角约束的宽角域光学增透方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119882229B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510262295.8，技术领域涉及：G02B27/00；该发明授权基于等效梯度折射率匹配及相角约束的宽角域光学增透方法是由王赫岩;陆振刚;金义斌;王少航;谭久彬设计研发完成，并于2025-03-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于等效梯度折射率匹配及相角约束的宽角域光学增透方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于等效梯度折射率匹配及相角约束的宽角域光学增透方法，本发明通过选择折射率不同的两种介质材料并分别控制介质层的厚度，可以根据传输矩阵将其转化为具有不同等效折射率和等效厚度的等效介质层，解决了目前有些折射率对应的介质材料不存在问题，以满足后续梯度折射率匹配的需要。此外，通过限制入射光在介质层中的传播角度约束传播相位的变化，从而实现传播相位对角度变化的不敏感性满足宽角域透射增强的需要，并根据传播角度约束的范围可以确定对应折射率的介质材料。根据上述方法可以快速选择出能实现宽角域光学增透的介质材料，大幅缩短了选择介质材料所需要的时间成本。

本发明授权基于等效梯度折射率匹配及相角约束的宽角域光学增透方法在权利要求书中公布了：1.一种基于等效梯度折射率匹配及相角约束的宽角域光学增透方法，用于实现在可见光波段0.4-0.7μm和红外波段1-12μm在-45°到45°范围内的宽角域光学增透，其特征在于，对于不存在的介质折射率，能采用等效折射率替代实际不存在的介质折射率，其包括以下步骤： Ⅰ、选择两种折射率不同的介质材料作为介质层A1和介质层B2，介质层A1和介质层B2的折射率分别为和，厚度分别为和； II、基于介质层A1和介质层B2的折射率，通过和计算每个界面的反射系数和透射系数，并由反射系数和透射系数构建界面的作用矩阵，其表达式为：，其中nk-1和nk分别为相邻两层的折射率； III、基于步骤Ⅰ中确定的厚度，通过计算每个介质层中的传播相位并构建介质层的传播矩阵，其中，为介质层的折射率，为介质层的厚度，λ为设计增透的波长； IV、将界面作用矩阵与传播矩阵按顺序相乘，得到整个多层介质结构的总转移矩阵，其表达式为：； V、基于步骤IV计算的总转移矩阵，令介质层A1和介质层B2的总转移矩阵等于单层介质的转移矩阵，确定等效介质层3的等效折射率和等效厚度； VI、通过调整介质层A1和介质层B2的厚度和，生成一系列等效折射率递减的介质层，形成符合梯度折射率匹配条件的等效介质梯度层； VII、将步骤VI中生成的等效折射率梯度层，按照折射率从大到小的顺序依次沉积在光学基底上，最终形成梯度折射率递减的光学增透复合结构； 所述步骤V中获取得到的等效折射率大于等于1.7，以实现宽角域的透射增强，且等效折射率ni≥1.7能将传播角度限制在25°以内来约束传播相位，从而实现光学基底增透复合结构在宽角域的透射增强； 为减小等效导纳，光学基底的导纳设置为，其中，为光学基底导纳的实部，为光学基底导纳的虚部； 结合光学基底导纳和介质层导纳，计算光学基底增透复合结构的总等效导纳，其满足以下关系，其中，为在介质中的传播相位，和分别为等效导纳的实部和虚部；为介质材料的导纳； 通过选择折射率递减的介质材料并调整每层的厚度，使总等效导纳接近1，满足以下条件，其中，总导纳与空气导纳匹配，以最大限度降低反射并增强透射。

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