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龙图腾网获悉上海大学申请的专利一种含POSS的单离子导体互穿网络聚合物电解质膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119899140B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510086508.6，技术领域涉及：C07C311/48；该发明授权一种含POSS的单离子导体互穿网络聚合物电解质膜及其制备方法是由付继芳;王骁;丁煜;陈立亚;贾蓉蓉;施利毅设计研发完成，并于2025-01-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种含POSS的单离子导体互穿网络聚合物电解质膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种含POSS的单离子导体互穿网络聚合物电解质膜及其制备方法，涉及聚合物电解质领域，首先制备了一种包含甲基丙烯酰胺结构的磺酰亚胺类锂盐单体，并将其与可聚合的POSS结构、EO链段和交联剂，通过两步光引发自由基聚合构建含POSS的单离子导体互穿网络聚合物电解质膜。解决了单离子电解质的离子电导率相对于传统双离子电解质明显偏低的问题，实现了离子电导率和锂离子迁移数的有效提高，所制备的电解质膜具有宽的电化学窗口以及良好的电极‑电解质相容性，由其组装的锂金属电池具有良好的循环性能。

本发明授权一种含POSS的单离子导体互穿网络聚合物电解质膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种含POSS的单离子导体互穿网络聚合物电解质膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： S21、配置含有聚偏氟乙烯-六氟丙烯的前驱液I，配置含有POSS材料和交联剂的前驱液II；所述POSS材料为七异丁基甲基丙烯酰氧丙基低聚倍半硅氧烷、七异辛基甲基丙烯酰氧丙基低聚倍半硅氧烷中的一种，所述交联剂为季戊四醇四丙烯酸酯； S22、混合所述前驱液I和前驱液II后，加入第一份引发剂，在65~75℃下搅拌形成均匀的溶液后，进行第一次紫外光照，引发自由基聚合；所述第一份引发剂为2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮、安息香二乙醚、安息香双甲醚中的一种或几种； S23、向S22步骤处理后的溶液中加入聚乙二醇二丙烯酸酯、单离子导体单体和第二份引发剂，在65~75℃下搅拌，获得均匀浆料；所述第二份引发剂为2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮、安息香二乙醚、安息香双甲醚中的一种或几种； S24、将所述浆料涂覆在基板上得到湿膜，并对湿膜进行第二次紫外光照，引发自由基聚合，然后干燥，获得初始膜； S25、将所述初始膜在电解液中浸泡处理，获得含POSS的单离子导体互穿网络聚合物电解质膜； 其中，所述单离子导体单体结构式为：。

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