买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉中国地质大学(北京)申请的专利一种水环境中Ni2+检测用修饰电极及检测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120703190B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510908503.7，技术领域涉及：G01N27/30；该发明授权一种水环境中Ni2+检测用修饰电极及检测方法是由薛强;田依然设计研发完成，并于2025-07-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种水环境中Ni2+检测用修饰电极及检测方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种水环境中Ni2+检测用修饰电极及检测方法，属于水质检测技术领域。本发明通过激光诱导石墨烯集成电极替代传统三电极体系，将M‑CMCMusDMG修饰到工作电极区域，进而制得M‑CMCMusDMGILIG传感器，其具有更高的灵敏度和优异的导电性能，显著降低了电化学检测的成本，且具有便携性、柔韧性好的特点，为Ni2+的快速现场检测提供了新的可能性和思路；本发明对CMC进行改性，以CuSO4为引发剂，通过苯胺的氧化聚合反应，以CMC为模版，利用一步合成法合成CuO@CMCPANI复合材料，其在CMC上引入PANI和CuONPs，具有更高的催化活性，电子转移能力更强。本发明所制得的M‑CMCMusDMGILIG能够成功应用于实际水样中Ni2+的测定，具有优异的稳定性、再现性和抗干扰性能。

本发明授权一种水环境中Ni2+检测用修饰电极及检测方法在权利要求书中公布了：1.一种水环境中Ni2+检测用修饰电极，其特征在于，由激光诱导石墨烯集成电极及修饰其表面的M-CMCMusDMG构成；其中，CMC为羟甲基纤维素；Mus为白云母；DMG为丁二酮肟； 所述修饰电极制备方法如下： A1、制备电极基底，利用激光诱导石墨烯集成电极替代传统三电极体系的工作电极、对电极和参比电极，将三个电极集成于电极基底上； A2、制备Mus-DMG悬浮液备用，具体包括如下内容： A2.1、称取一定量聚苯乙烯溶于丙酮溶液当中，振荡处理； A2.2、在分析天平上称量一定量DMG和Mus，放入研钵中进行研磨；将混合粉末溶于含聚苯乙烯的丙酮溶液当中再超声一定时间，等待使用； A3、制备M-CMC材料备用，具体包括如下内容： A3.1、使用分析天平称取一定量CuSO4·5H2O溶于去离子水中后进行超声处理； A3.2、称取一定量CMC缓慢滴加至搅拌的去离子水中，超声处理一定时间然后再进行磁力搅拌； A3.3、加入苯胺溶液继续搅拌； A3.4、将A3.1中所制得的CuSO4·5H2O溶液缓慢滴加至A3.3中搅拌的溶液中，滴加完成后持续进行搅拌； A3.5、对A3.4中的溶液进行抽滤后转移至烘箱内进行干燥，得到黑绿色的CuONPs-CMC-PANI粉末，所述粉末即为M-CMC材料； A4、将A3中所制得的M-CMC材料溶于去离子水中并进行超声处理，制得M-CMC溶液； A5、将A4中所制得的M-CMC溶液及A2中所制得的MusDMG悬浮液先后滴涂到集成电极的工作电极区域，进而制得M-CMCMusDMG修饰电极。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中国地质大学(北京)，其通讯地址为：100083 北京市海淀区学院路29号中国地质大学(北京)；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。