中国科学技术大学张钊获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学技术大学申请的专利一种牺牲层辅助制备的石墨烯-聚合物复合膜及制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120863194B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511258908.7，技术领域涉及：B32B38/10；该发明授权一种牺牲层辅助制备的石墨烯-聚合物复合膜及制备方法是由张钊;汪国睿;张晖;张忠设计研发完成，并于2025-09-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种牺牲层辅助制备的石墨烯-聚合物复合膜及制备方法在说明书摘要公布了：本发明属于复合材料制备技术领域，具体涉及一种牺牲层辅助制备的石墨烯‑聚合物复合膜及制备方法，包括以下步骤：将带有牺牲层的石墨烯膜铜箔在硫酸铵溶液中进行刻蚀，去除铜箔，得到牺牲层石墨烯薄膜复合体；其中，牺牲层与石墨烯薄膜相接触；所述硫酸铵溶液的浓度为1molL~5molL；将牺牲层石墨烯薄膜复合体负载于表面生长有聚合物层的基底上，并使石墨烯薄膜与聚合物层相接触，退火处理后，放入刻蚀液中进行刻蚀去除牺牲层，得到石墨烯‑聚合物复合膜。
本发明授权一种牺牲层辅助制备的石墨烯-聚合物复合膜及制备方法在权利要求书中公布了：1.一种牺牲层辅助制备的石墨烯-聚合物复合膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 将带有牺牲层的石墨烯膜铜箔在硫酸铵溶液中进行刻蚀，去除铜箔，得到牺牲层石墨烯薄膜复合体；其中，牺牲层与石墨烯薄膜相接触； 将牺牲层石墨烯薄膜复合体负载于表面生长有聚合物层的基底上，并使石墨烯薄膜与聚合物层相接触，退火处理后，放入刻蚀液中进行刻蚀，去除牺牲层，得到石墨烯-聚合物复合膜；所述退火处理的温度为80℃~100℃； 所述牺牲层是由乙基纤维素溶液、聚乙烯醇缩丁醛溶液、环十二烷溶液、樟脑溶液、醋酸纤维素溶液、聚乙二醇溶液中的任意一种，喷涂于石墨烯膜铜箔上得到； 当牺牲层由乙基纤维素溶液、聚乙烯醇缩丁醛溶液、樟脑溶液制备时，刻蚀液为乙醇； 当牺牲层由环十二烷溶液制备时，刻蚀液为环己烷； 当牺牲层由醋酸纤维素溶液制备时，刻蚀液为丙酮； 当牺牲层由聚乙二醇溶液制备时，刻蚀液为水； 所述石墨烯膜的厚度为0.34nm~10nm，所述聚合物层的厚度为5nm~100nm； 所述聚合物层为聚碳酸酯层、聚甲基丙烯酸甲酯层、聚苯乙烯层、聚乙烯醇层中的任意一种。
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