上海隐冠半导体技术有限公司汪展仝获国家专利权
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龙图腾网获悉上海隐冠半导体技术有限公司申请的专利姿态测量装置、测量方法及半导体加工设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120991815B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511535237.4，技术领域涉及：G01C15/00；该发明授权姿态测量装置、测量方法及半导体加工设备是由汪展仝;张晨;齐能;吴立伟设计研发完成，并于2025-10-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本姿态测量装置、测量方法及半导体加工设备在说明书摘要公布了：本申请涉及半导体加工技术领域，特别涉及一种姿态测量装置、测量方法及半导体加工设备。该装置包括工件台、反射组件和垂向光学测量系统。工件台至少包括支撑板，支撑板具有第一表面，第一表面用于承载工件。支撑板上设有贯穿支撑板的通光孔。反射组件位于支撑板靠近第一表面的一侧，反射组件用于反射入射到反射组件光束。垂向光学测量系统位于支撑板背离第一表面的一侧。光学测量系统所发出的测量光自下而上穿过支撑板，通过设置反射组件来反射测量光，从而使得垂向光学测量系统不会影响曝光设备的物镜工作。此外，光学测量系统设置在支撑板下方，可以显著的缩短测量光程，并简化了测量光路，从而有效降低了整机的集成难度。
本发明授权姿态测量装置、测量方法及半导体加工设备在权利要求书中公布了：1.一种姿态测量装置，其特征在于，包括： 工件台1，所述工件台1至少包括支撑板134，所述支撑板134具有第一表面，所述第一表面用于承载工件；所述支撑板134上设有贯穿所述支撑板134的通光孔132； 反射组件3，所述反射组件3位于所述支撑板134靠近所述第一表面的一侧，所述反射组件3用于反射入射到所述反射组件3的光束； 垂向光学测量系统2，所述垂向光学测量系统2位于所述支撑板134背离所述第一表面的一侧；所述垂向光学测量系统2用于发射测量光，所述测量光能够沿第一方向穿过所述通光孔132入射到所述反射组件3，并经所述反射组件3反射得到反射光，所述反射光能够沿所述第一方向的反方向穿过所述通光孔132；所述垂向光学测量系统2还用于接收所述反射光，并根据所述测量光和所述反射光，确定所述工件台1的垂向姿态；其中，所述第一方向平行于所述支撑板134的厚度方向。
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