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龙图腾网获悉新上联半导体设备(上海)有限公司申请的专利用于半导体热处理工艺的温度测量与控制方法及设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121215547B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511746666.6，技术领域涉及：H10P74/20；该发明授权用于半导体热处理工艺的温度测量与控制方法及设备是由王文岩设计研发完成，并于2025-11-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于半导体热处理工艺的温度测量与控制方法及设备在说明书摘要公布了：本申请提供一种用于半导体热处理工艺的温度测量与控制方法及设备，包括：通过多个高温计同步测量晶圆背面相应位置的热辐射强度与发射率；计算高温计测量得到的发射率的第一波动值；若波动值小于或等于预设阈值，则指定单一高温计测得的发射率用于所有高温计的温度计算；否则计算相邻高温计所测发射率之间的第二波动值，并将第二波动值小于所述预设阈值的相邻高温计归入同一组，并在每组内指定一个代表高温计测得的发射率来计算本组内所有高温计对应位置的温度；根据计算出的多个位置的晶圆温度，控制加热灯组的各加热区域对晶圆进行分区温度控制。本申请能够采用多种控制策略来保证工艺一致性与稳定性，实现高精度、高均匀性温度控制。

本发明授权用于半导体热处理工艺的温度测量与控制方法及设备在权利要求书中公布了：1.一种用于半导体热处理工艺的温度测量与控制方法，其特征在于，应用于一热处理设备，所述热处理设备包括被划分为多个加热区域的加热灯组、以及对应于晶圆背面多个测量位点的多个高温计，所述方法包括以下步骤： 通过所述多个高温计同步测量晶圆背面相应位置的热辐射强度与发射率； 计算所述多个高温计测量得到的发射率的第一波动值，所述第一波动值是所述多个高温计测量得到的发射率中的最大值减去最小值的绝对值； 若所述第一波动值小于或等于预设阈值，则指定所述多个高温计中的一个高温计测得的发射率作为公共发射率，用于所有高温计的温度计算； 若所述第一波动值大于所述预设阈值，则计算相邻高温计所测发射率之间的第二波动值，并将所述第二波动值小于所述预设阈值的相邻高温计归入同一组，并在每组内指定一个代表高温计，使用该代表高温计测得的发射率计算本组内所有高温计对应位置的温度，所述第二波动值是相邻两高温计所测发射率之间的绝对差值； 根据计算出的多个位置的晶圆温度，控制所述加热灯组的各加热区域对晶圆进行分区温度控制。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人新上联半导体设备(上海)有限公司，其通讯地址为：201306 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区飞渡路55号2幢厂房A单元；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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