合光光掩模科技(安徽)有限公司徐雪峰获国家专利权
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龙图腾网获悉合光光掩模科技(安徽)有限公司申请的专利光罩的缺陷修复方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121364592B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511948234.3，技术领域涉及：G03F1/72；该发明授权光罩的缺陷修复方法是由徐雪峰;李勇;卓其磷设计研发完成，并于2025-12-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本光罩的缺陷修复方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种光罩的缺陷修复方法，涉及半导体技术领域，包括：先确定光罩上的缺陷的位置；然后，在缺陷表面形成阻胶层，阻胶层覆盖缺陷；接着，形成光刻胶层，光刻胶层围绕阻胶层分布，且光刻胶层与阻胶层之间具有非粘附性；接着，以光刻胶层为掩模，对阻胶层和缺陷进行刻蚀，以去除阻胶层和缺陷。由于光刻胶层与阻胶层之间具有非粘附性，故在形成光刻胶层的过程中，阻胶层表面不会形成光刻胶层，光刻胶层围绕阻胶层形成，故在形成光刻胶层之后，可直接以光刻胶层作为掩模，对阻胶层和缺陷进行刻蚀，从而去除阻胶层和缺陷，简化了光罩修复流程，避免了对光罩进行二次曝光、曝光后的烘烤和显影工艺，缩短了光罩修复周期，并提高了修复精度。
本发明授权光罩的缺陷修复方法在权利要求书中公布了：1.一种光罩的缺陷修复方法，其特征在于，包括： 提供光罩； 确定所述光罩中的缺陷的位置，所述缺陷为金属残留物； 在所述缺陷表面形成阻胶层，所述阻胶层覆盖所述缺陷； 在所述光罩上形成光刻胶层，所述光刻胶层围绕所述阻胶层分布，且所述光刻胶层与所述阻胶层之间具有非粘附性； 以所述光刻胶层为掩模，对所述阻胶层和所述缺陷进行刻蚀，以去除所述阻胶层和所述缺陷。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人合光光掩模科技(安徽)有限公司，其通讯地址为：230601 安徽省合肥市合肥经济技术开发区奔牛路100号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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