日本瑞翁株式会社浅田毅获国家专利权
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龙图腾网获悉日本瑞翁株式会社申请的专利相位差膜及制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN110709737B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201880034671.6，技术领域涉及：G02B5/30；该发明授权相位差膜及制造方法是由浅田毅设计研发完成，并于2018-05-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本相位差膜及制造方法在说明书摘要公布了：一种相位差膜及其制造方法，该相位差膜由包含共聚物P的树脂C形成，共聚物P包含聚合单元A和聚合单元B，该相位差膜包含显现结构性双折射的相分离结构，上述相分离结构包含以上述聚合单元A为主成分的相和以上述聚合单元B为主成分的相，该相位差膜具有大于0且小于1的NZ系数。优选上述相分离结构具有层状、柱状、椭球状中任一种形态，上述相分离结构中的相间距离为200nm以下。
本发明授权相位差膜及制造方法在权利要求书中公布了：1.一种相位差膜的制造方法，所述相位差膜由包含共聚物P的树脂C形成，所述共聚物P包含聚合单元A和聚合单元B， 所述共聚物P具有负的固有双折射值， 所述相位差膜包含显现结构性双折射的相分离结构和显现分子取向性双折射的分子取向，所述相分离结构包含以所述聚合单元A为主成分的相和以所述聚合单元B为主成分的相， 所述相位差膜具有大于0且小于1的NZ系数， 所述相分离结构具有层状、柱状、椭球状的任一个形态， 所述相分离结构中的相间距离为200nm以下， 所述相位差膜的面内延迟Re在120nm～160nm或者250nm～290nm的范围内， 所述制造方法包含： 通过熔融挤出形成所述树脂C的单层膜的工序， 在所述膜中使所述树脂C进行相分离的工序，以及 拉伸所述膜而赋予分子取向性双折射的工序， 使所述树脂C进行相分离的工序包含通过沿所述膜的厚度方向施加压力来对所述膜施加沿其厚度方向的应力的工序。
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