京东方科技集团股份有限公司董水浪获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利准直背光模组,其制备方法及显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN112313569B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-13发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:201980000431.9,技术领域涉及:G02F1/13357;该发明授权准直背光模组,其制备方法及显示装置是由董水浪;孟宪东;刘文渠;谭纪风;谭伟设计研发完成,并于2019-03-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本准直背光模组,其制备方法及显示装置在说明书摘要公布了:一种准直背光模组100,其制备方法及显示装置。其中,准直背光模组100的制备方法,包括:提供一导光板110;在导光板110的出光侧上形成保护层410,保护层410同时覆盖出光侧的出光区A1和非出光区A2,在保护层410上形成镂空区Q1,使得导光板110的出光区A1露出;在导光板110上的出光区A1形成取光光栅310。
本发明授权准直背光模组,其制备方法及显示装置在权利要求书中公布了:1.一种准直背光模组的制备方法,其中,包括: 提供一导光板; 在所述导光板的出光侧上形成保护层,所述保护层同时覆盖所述出光侧的出光区和非出光区,在所述保护层上形成镂空区,使得所述导光板的所述出光区露出; 在所述导光板上的所述出光区形成取光光栅; 去除所述导光板的非出光区的保护层; 所述在所述导光板上的所述出光区形成取光光栅,包括: 在所述导光板上形成覆盖所述导光板的绝缘层,所述绝缘层的折射率大于所述导光板的折射率; 采用构图工艺使所述绝缘层在所述导光板上的各区域形成光栅结构; 在所述光栅结构上形成具有多个开口区的光刻胶层;其中,所述开口区与所述准直背光模组的非出光区重叠; 采用干法刻蚀工艺,去除对应所述非出光区内的光栅结构,保留非出光区的所述保护层; 剥离所述光刻胶层,形成仅位于所述出光区内的取光光栅; 所述采用构图工艺使所述绝缘层在所述导光板上的各区域形成光栅结构,包括: 采用压印工艺或转印工艺,使所述绝缘层在所述导光板上的各区域形成光栅结构。
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