美商新思科技有限公司T·塞西尔获国家专利权
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龙图腾网获悉美商新思科技有限公司申请的专利用于光刻制造系统的剂量信息生成和传达获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114002913B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110856567.9，技术领域涉及：G03F1/70；该发明授权用于光刻制造系统的剂量信息生成和传达是由T·塞西尔设计研发完成，并于2021-07-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于光刻制造系统的剂量信息生成和传达在说明书摘要公布了：本公开的实施例涉及用于光刻制造系统的剂量信息生成和传达。一种方法包括：接收集成电路IC设计文件；以及通过一个或多个处理器根据IC设计文件确定剂量信息。该方法还包括：通过一个或多个处理器根据IC文件来确定掩模矢量文件；并且通过一个或多个处理器将剂量信息转换为矢量文件格式。进一步地，该方法包括：将矢量文件格式的剂量信息和掩模矢量文件输出到掩模写入器设备。
本发明授权用于光刻制造系统的剂量信息生成和传达在权利要求书中公布了：1.一种方法，包括： 接收集成电路IC设计文件； 通过一个或多个处理器根据所述IC设计文件来确定剂量信息； 通过所述一个或多个处理器根据所述IC设计文件来确定掩模矢量文件； 通过所述一个或多个处理器将所述剂量信息转换为矢量文件格式；以及 将所述矢量文件格式的所述剂量信息和所述掩模矢量文件输出到掩模写入器设备。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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