深圳市华星光电半导体显示技术有限公司匡友元获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市华星光电半导体显示技术有限公司申请的专利一种蒸镀系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114540770B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210123646.3，技术领域涉及：C23C14/24；该发明授权一种蒸镀系统是由匡友元;欧建兵设计研发完成，并于2022-02-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种蒸镀系统在说明书摘要公布了：本发明涉及一种蒸镀系统。本发明的蒸镀系统在掩模板远离所述蒸镀源的一侧设置第一支撑件，在基板靠近所述掩模板的一侧且对应于所述第一支撑件的位置处设有第二支撑件，所述第一支撑件远离所述掩模板的一侧的表面抵接于所述第二支撑件远离所述基板的一侧的表面；通过第一支撑件和第二支撑件联合撑开掩模板和基板，增加了掩模板和基板之间的距离，由此可以防止基板被掩模板划伤；增加蒸镀系统蒸镀时的阴影效应的调节范围，满足大阴影场景的使用需求。
本发明授权一种蒸镀系统在权利要求书中公布了：1.一种蒸镀系统，其特征在于，包括： 蒸镀源，其具有一开口； 掩模板，设置于所述蒸镀源设有所述开口的一侧；所述掩模板远离所述蒸镀源的一侧设有第一支撑件；以及 基板，设置于所述掩模板远离所述蒸镀源的一侧；所述基板在靠近所述掩模板的一侧且对应于所述第一支撑件的位置处设有第二支撑件； 所述第一支撑件的高度范围为0.5-1mm； 所述第二支撑件的高度范围为5-10μm； 所述第一支撑件和所述第二支撑件联合撑开所述掩模板和所述基板； 所述第一支撑件的材质与所述掩模板的材质相同； 所述第一支撑件远离所述掩模板的一侧的表面抵接于所述第二支撑件远离所述基板的一侧的表面。
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