长鑫存储技术有限公司李杰获国家专利权
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龙图腾网获悉长鑫存储技术有限公司申请的专利表面粗糙度的检测方法、检测装置、设备和可读存储介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115265460B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-13发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210901666.9,技术领域涉及:G01B21/30;该发明授权表面粗糙度的检测方法、检测装置、设备和可读存储介质是由李杰设计研发完成,并于2022-07-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本表面粗糙度的检测方法、检测装置、设备和可读存储介质在说明书摘要公布了:本公开提供了一种表面粗糙度的检测方法、检测装置、设备和可读存储介质,涉及半导体技术领域。其中,半导体薄膜表面粗糙度的检测方法包括:基于薄膜图案工艺参数确定薄膜表面上第一区域的面积占比,第一区域包括均匀分布的多个图案;基于薄膜表面的整体粗糙度数据和面积占比对多个图案进行定位;基于定位结果检测第一区域的粗糙度和第二区域的粗糙度的至少其一,第二区域包括薄膜表面的第一区域之外的区域。通过本公开的技术方案,能够通过第一区域的面积占比实现对第一区域中多个图案的定位,并进一步实现对不同区域的粗糙度的输出,从而有利于提升对薄膜表面的粗糙度的测量精度和评价有效性。
本发明授权表面粗糙度的检测方法、检测装置、设备和可读存储介质在权利要求书中公布了:1.一种半导体薄膜表面粗糙度的检测方法,其特征在于,包括: 基于薄膜图案工艺参数确定所述薄膜表面上第一区域的面积占比,所述第一区域包括均匀分布的多个图案; 基于所述薄膜表面的整体粗糙度数据和所述面积占比对所述多个图案进行定位; 基于定位结果检测所述第一区域的粗糙度和第二区域的粗糙度的至少其一,所述第二区域包括所述薄膜表面的所述第一区域之外的区域; 其中,所述基于所述薄膜表面的整体粗糙度数据和所述面积占比对所述多个图案进行定位包括: 基于所述图案的面积和所述面积占比生成大于所述图案的选取框; 基于所述选取框对所述多个图案中的一个进行选取操作,得到参照图案; 从所述整体粗糙度数据中提取所述参照图案的粗糙度数据,作为参照粗糙度数据; 基于高度参数值对所述参照粗糙度数据进行排序,得到第一排序结果; 从所述第一排序结果中选择排序与所述面积占比对应的所述参照粗糙度数据; 基于选择的所述参照粗糙度数据对所述多个图案进行定位。
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