Document
拖动滑块完成拼图
个人中心

预订订单
商城订单
发布专利 发布成果 人才入驻 发布商标 发布需求

请提出您的宝贵建议,有机会获取IP积分或其他奖励

投诉建议

在线咨询

联系我们

龙图腾公众号
专利交易 商标交易 积分商城 国际服务 IP管家助手 科技果 科技人才 会员权益 需求市场 关于龙图腾 更多
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索
当前位置 : 首页 > 专利喜报 > 上海彤程电子材料有限公司;北京彤程创展科技有限公司;北京科华微电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司王璨获国家专利权

上海彤程电子材料有限公司;北京彤程创展科技有限公司;北京科华微电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司王璨获国家专利权

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

龙图腾网获悉上海彤程电子材料有限公司;北京彤程创展科技有限公司;北京科华微电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司申请的专利一种交联剂及其制备方法、光刻胶获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115925645B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-13发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211695383.X,技术领域涉及:C07D251/70;该发明授权一种交联剂及其制备方法、光刻胶是由王璨;孙嘉;李冰;鲁代仁;王文芳;董栋;张宁设计研发完成,并于2022-12-28向国家知识产权局提交的专利申请。

一种交联剂及其制备方法、光刻胶在说明书摘要公布了:本申请提供一种交联剂及其制备方法、光刻胶,属于光刻技术领域。光刻胶包括溶质和第一溶剂,其中,溶质包括70wt%~95wt%碱溶性树脂、1wt%~30wt%光致产酸剂、0.1wt%~15wt%酸淬灭剂和5wt%~20wt%上述的交联剂,第一溶剂的质量为碱溶性树脂的质量的1倍~10倍。本申请的交联剂能够用于添加到光刻胶中,并使得光刻胶的基体树脂的交联反应更加均匀,减少或避免局部分子量太大引起的形貌缺陷,得到的图形线条边缘更加垂直,且窗口更大。

本发明授权一种交联剂及其制备方法、光刻胶在权利要求书中公布了:1.一种交联剂的制备方法,其特征在于,所述交联剂的制备方法包括:将羟烷基三聚氰胺和反应物经酸性催化反应制得中间物,再将所述中间物中和; 所述羟烷基三聚氰胺的结构式如下: 其中,所述R11、所述R12、所述R13、所述R14、所述R15和所述R16各自独立地选自H或-R17-OH; 所述R17选自C1~10烷基; 所述R11、所述R12、所述R13、所述R14、所述R15和所述R16中任意的至少两个选自-R17-OH; 所述反应物选自烷基酚化合物和醇类化合物中的至少一种,所述烷基酚化合物选自甲酚、二甲酚、乙基酚、丙基苯酚、叔丁基苯酚、戊基酚、庚基酚、辛基酚、2,4-二叔丁基苯酚、壬基酚、癸基酚、十二烷基酚、十四烷基酚、十六烷基酚、十八烷基酚和腰果酚中的任意一种或多种; 所述醇类化合物选自甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、戊醇、己醇、庚醇、辛醇、十醇、十二醇、十四醇、十六醇、十八醇和二十醇中的任意一种或多种; 所述交联剂的结构式如下: 其中,所述R3和所述R6同时为第一基团,且所述R1、所述R2同时为第二基团,或其一为第二基团另一为H,所述R4、所述R5同时为H或同时为第二基团; 所述第一基团的结构式为; 所述第二基团的结构式为-R9-O-R10; 所述R7选自C1~10烷基; 所述R8选自H或C1~20烷基; 所述R9选自C1~10烷基; 所述R10选自C1~20烷基。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人上海彤程电子材料有限公司;北京彤程创展科技有限公司;北京科华微电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司,其通讯地址为:201507 上海市奉贤区化学工业区目华路201号1幢904室;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。