厦门大学;深圳顺络电子股份有限公司詹东平获国家专利权
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龙图腾网获悉厦门大学;深圳顺络电子股份有限公司申请的专利一种电子电镀添加剂组合物及其在抑制银-铁氧体界面镍横向电沉积中的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116180169B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211619036.9，技术领域涉及：C25D3/12；该发明授权一种电子电镀添加剂组合物及其在抑制银-铁氧体界面镍横向电沉积中的应用是由詹东平;王梅;曾向东;许光;金磊;杨家强;杨防祖设计研发完成，并于2022-12-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种电子电镀添加剂组合物及其在抑制银-铁氧体界面镍横向电沉积中的应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种电子电镀添加剂组合物及其在抑制银‑铁氧体界面镍横向电沉积中的应用，该电子电镀添加剂组合物，其特征在于：由作为镍横向沉积抑制剂的含硫化合物、表面活性剂和光亮剂以1‑30：5‑50：4‑15的质量比组成。本发明结合特定的电子电镀条件，可实现完全抑制银‑铁氧体界面镍横向沉积，且镍镀层外观金属光亮，结合力好。
本发明授权一种电子电镀添加剂组合物及其在抑制银-铁氧体界面镍横向电沉积中的应用在权利要求书中公布了：1.一种电子电镀添加剂组合物，其特征在于：由作为镍横向沉积抑制剂的含硫化合物、表面活性剂和光亮剂以1-30:5-50:4-15的质量比组成，其中， 含硫化合物为二氨基二苯乙烯二磺酸，表面活性剂为二乙基己基磺酸钠，光亮剂为丁炔二醇； 或含硫化合物为3-羟基苯基硫脲，表面活性剂为异辛基硫酸钠，光亮剂为邻磺酰苯酰亚胺； 或含硫化合物为2-亚氨基-4-硫化缩二脲，表面活性剂为十二烷基硫酸钠，光亮剂为丙炔基磺酸钠。
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