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龙图腾网获悉旭化成株式会社申请的专利基底用涂料组合物、多层涂膜层叠体及多层涂膜层叠体的形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117645828B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311123667.6，技术领域涉及：C09D175/04；该发明授权基底用涂料组合物、多层涂膜层叠体及多层涂膜层叠体的形成方法是由篠宫希绘;铃木澪;山内理计设计研发完成，并于2023-09-01向国家知识产权局提交的专利申请。

本基底用涂料组合物、多层涂膜层叠体及多层涂膜层叠体的形成方法在说明书摘要公布了：提供基底用涂料组合物、多层涂膜层叠体及多层涂膜层叠体的形成方法。[课题]提供即使在低温下固化时也能够制造硬度及耐水性优异的多层涂膜层叠体的基底用涂料组合物。[解决手段]一种基底用涂料组合物，其为用于在被涂物上形成多层涂膜层叠体的基底用涂料组合物，上述多层涂膜层叠体具备基底层和1层以上的涂膜，上述基底用涂料组合物包含多异氰酸酯成分A及含羟基树脂成分，上述多异氰酸酯成分A包含在分子内含有磺酸根阴离子基团的多异氰酸酯和1种以上通式1所示的胺化合物的叔铵阳离子。

本发明授权基底用涂料组合物、多层涂膜层叠体及多层涂膜层叠体的形成方法在权利要求书中公布了：1.一种基底用涂料组合物，其为用于在被涂物上形成多层涂膜层叠体的基底用涂料组合物， 所述多层涂膜层叠体具备基底层和1层以上的涂膜， 所述基底用涂料组合物包含多异氰酸酯成分A及含羟基树脂成分， 所述多异氰酸酯成分A包含：在分子内含有磺酸根阴离子基团的多异氰酸酯、和1种以上的下述通式1所示的胺化合物的叔铵阳离子， 通式1中，R11、R12及R13相互独立地为任选包含醚键的碳数1以上且10以下的烃基；选自由R11、R12及R13组成的组中的至少1个任选包含环结构，选自由R11、R12及R13组成的组中的2个以上任选相互键合而形成环结构；所述环结构为芳香族环、碳数5或6的环烷基、R11与R12相互键合而成的5元环或6元环、或R11与R12与R13相互键合而成的多元的多环， 所述多异氰酸酯成分A包含下述式I所示的异氰脲酸酯基、下述式II所示的亚氨基噁二嗪二酮基和下述式III所示的脲二酮基， 下述式2所示的特定摩尔比为0.05以上且0.60以下， 特定摩尔比＝B+CA+B+C2 式2中，A表示下述式I所示的异氰脲酸酯基的以摩尔％计的含有比率，B表示下述式II所示的亚氨基噁二嗪二酮基的以摩尔％计的含有比率，C表示下述式III所示的脲二酮基的以摩尔％计的含有比率，

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