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龙图腾网获悉光本位智能科技(上海)有限公司申请的专利一种基于透光基板的光波导制备方法及光波导获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121050024B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511582260.9，技术领域涉及：G02B6/13；该发明授权一种基于透光基板的光波导制备方法及光波导是由程唐盛;薛乐杰设计研发完成，并于2025-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于透光基板的光波导制备方法及光波导在说明书摘要公布了：本发明涉及光子计算领域，具体公开了一种基于透光基板的光波导制备方法及光波导，其中该方法包括步骤：S101，在透光基板的第一表面上沉积掩护层；S102，在掩护层的第二表面上依次沉积波导层和压印胶层；S103，利用压印软模版对压印胶层进行压印，使得压印胶层上形成压印图案；S104，基于压印图案对压印后凹槽内的残留层进行刻蚀；S105，基于压印图案对波导层进行过刻蚀，得到图案化的波导层；S106，去除压印胶层，得到图案化的波导层；S107，在图案化的波导层上沉积覆盖层，使得覆盖层与掩护层将波导层进行包裹。进一步地，掩护层分别采用不同的沉积工艺分别沉积得到具有平坦表面的双层结构。

本发明授权一种基于透光基板的光波导制备方法及光波导在权利要求书中公布了：1.一种基于透光基板的光波导制备方法，其特征在于，包括步骤： S101，在透光基板100的第一表面101上沉积掩护层200，所述掩护层200用于在后续刻蚀过程中保护所述透光基板100，同时用于保证所述透光基板100与光之间的光耦合作用； S102，在所述掩护层200的第二表面201上依次沉积波导层300和压印胶层400； S103，利用预先制备好的压印软模版500对所述压印胶层400进行压印，使得所述压印胶层400上形成压印图案； S104，基于所述压印图案对压印后凹槽内的残留层进行刻蚀； S105，基于所述压印图案，利用预设刻蚀选择比的刻蚀气体对所述波导层300进行过刻蚀，得到图案化的所述波导层300； S106，去除压印胶层400，得到图案化的波导层300； S107，在图案化的波导层300上沉积覆盖层800，使得所述覆盖层800与所述掩护层200将所述波导层300进行包裹； 其中，步骤S101具体包括： S1011，采用第一沉积工艺在所述第一表面101沉积厚度为H1且具有第一形貌的二氧化硅作为第一防护层202；所述第一沉积工艺包括HDP-CVD，或SACVD，或FCVD； S1012，采用第二沉积工艺在所述第一防护层202的上表面沉积厚度为H2且具有第二形貌的二氧化硅作为第二防护层203；所述第二沉积工艺包括PECVD； 其中，所述第二防护层203的厚度H2与所述第一防护层202的厚度H1之和大于或等于1um；且所述第一形貌的所述第一防护层202和所述第二形貌的所述第二防护层203互补形成平坦的所述掩护层200。

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