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龙图腾网获悉家登精密工业股份有限公司申请的专利增强内部流场的基板容器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114249029B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110178628.0，技术领域涉及：B65D85/30；该发明授权增强内部流场的基板容器是由邱铭乾;沈恩年;潘咏晋;林志铭;刘维虔;钟承恩;李柏廷;江俊谚设计研发完成，并于2021-02-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本增强内部流场的基板容器在说明书摘要公布了：本发明公开一种增强内部流场的基板容器，包含盒体、至少一个偏位充气机构及至少一个气体扩散机构，偏位充气机构设置于盒体的内部容置空间之外，偏位充气机构具有平行底板的气室，气体扩散机构包括底座、隔离墙及至少一个扩散构件，底座罩覆于气室的出气口而形成副气室，隔离墙垂直底板延伸而形成垂直的第一气体通道，第一气体通道连通副气室，扩散构件与隔离墙夹合形成第二气体通道，隔离墙具有至少一个孔隙以连通第一气体通道及第二气体通道。本发明改善了基板容器的流场仅限于底部的问题，增强了基板容器的内部流场，维护基板质量。

本发明授权增强内部流场的基板容器在权利要求书中公布了：1.一种增强内部流场的基板容器，其特征在于，所述增强内部流场的基板容器包括： 盒体，具有前盖、反向于所述前盖的背板、连接所述前盖及所述背板的底板及顶板，所述前盖、所述背板、所述底板及所述顶板夹合形成内部容置空间； 至少一个偏位充气机构，设置于所述内部容置空间之外，所述偏位充气机构具有平行所述底板的气室，所述气室的一端具有反向于所述盒体的进气口，所述气室的另一端具有穿透所述底板的多个出气口，所述多个出气口临近所述背板；以及 至少一个气体扩散机构，邻接于所述背板，所述气体扩散机构包括两个底座、两个隔离墙及两个扩散构件，所述两个底座罩覆于所述多个出气口而形成副气室，所述两个隔离墙垂直所述底板延伸且以彼此面对的两侧形成垂直的第一气体通道，所述第一气体通道连通所述副气室，所述两个扩散构件设置于所述两个隔离墙彼此背对的两侧，且各个所述扩散构件与一个同侧设置的所述隔离墙夹合形成一个第二气体通道，所述两个隔离墙具有至少一个孔隙，所述至少一个孔隙连通所述第一气体通道及所述两个第二气体通道；其中，所述第一气体通道和所述两个第二气体通道的排列方向平行于所述背板的表面，所述第一气体通道和所述两个第二气体通道平行分布且邻近所述背板，所述两个第二气体通道中的第一者与第二者设置于所述第一气体通道的相对侧。

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