应用材料公司塔纳·科斯获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利用于无掩模光刻系统的通用计量文档、协议及处理获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114556217B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:201980101225.7,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权用于无掩模光刻系统的通用计量文档、协议及处理是由塔纳·科斯;陈正方;道格拉斯·约瑟夫·万·迪恩·布鲁克设计研发完成,并于2019-10-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于无掩模光刻系统的通用计量文档、协议及处理在说明书摘要公布了:本公开内容的实施方式涉及一种光刻工艺的系统、软件应用程序及方法,利用光刻环境的每个部件可读取的文档来更新掩模图案、无掩模光刻装置参数、光刻工艺参数之中的一者或多者。光刻环境的每个部件可读取的文档储存并共享文本资料,并促进光刻环境的各个部件之间的通信,从而更新对应于要写入的图案的掩模图案,校准光刻环境的无掩模光刻装置,以及校正光刻工艺的工艺参数,以在连续的基板上精确地写入掩模图案。
本发明授权用于无掩模光刻系统的通用计量文档、协议及处理在权利要求书中公布了:1.一种无掩模光刻的方法,包括下列步骤: 用光刻环境的虚拟掩模装置创建设计文档与通用计量文档,其中: 所述光刻环境包括一控制器,所述控制器是可操作的以连接到所述虚拟掩模装置、计量装置、及无掩模光刻装置;及 所述通用计量文档能够由所述控制器、所述虚拟掩模装置、所述计量装置、及所述无掩模光刻装置中的每一者读取; 将所述设计文档传送至所述无掩模光刻装置,并将所述通用计量文档传送至所述计量装置; 执行光刻工艺,包括:利用所述无掩模光刻装置基于所述设计文档图案化第一基板,并将由所述无掩模光刻装置图案化的所述第一基板传送至所述计量装置; 根据所述通用计量文档的指令,用所述计量装置执行一个或多个计量处理,并用计量测量值填充所述通用计量文档; 根据所述通用计量文档的指令,用所述计量装置执行一个或多个应用程序的第一部分,以编译所述通用计量文档中的校正模型与校准偏移数据中的至少一者; 将所述通用计量文档传送给所述虚拟掩模装置与所述无掩模光刻装置中的至少一者;以及 利用所述虚拟掩模装置与所述无掩模光刻装置中的至少一者更新所述设计文档。
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