三星显示有限公司金洸炫获国家专利权
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龙图腾网获悉三星显示有限公司申请的专利掩模组件以及制造该掩模组件的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114657508B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111587120.2，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权掩模组件以及制造该掩模组件的方法是由金洸炫;河宪植;全祐奭设计研发完成，并于2021-12-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩模组件以及制造该掩模组件的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及掩模组件以及制造该掩模组件的方法。该方法包括：形成包括掩模图案的单元掩模以及包括被设置为分别与掩模图案相对应的导电图案的网格框架，并且将单元掩模和网格框架设置在掩模框架上。形成单元掩模和网格框架包括：形成聚合物层、导电层和硬掩模层，形成包括蚀刻图案的掩模图案层，并且使用掩模图案层形成单元掩模和网格框架。
本发明授权掩模组件以及制造该掩模组件的方法在权利要求书中公布了：1.一种制造掩模组件的方法，包括： 形成包括多个掩模图案的单元掩模以及包括被设置为分别与所述多个掩模图案相对应的多个导电图案的网格框架；并且 将所述单元掩模和所述网格框架设置在掩模框架上， 形成所述单元掩模和所述网格框架包括： 在基底基板上形成聚合物层； 在所述聚合物层上形成导电层； 在所述导电层上形成硬掩模层； 蚀刻所述硬掩模层和所述导电层以形成包括蚀刻图案的掩模图案层；并且 使用所述掩模图案层蚀刻所述聚合物层以形成所述单元掩模和所述网格框架， 其中，所述掩模图案层包括： 通过蚀刻所述硬掩模层形成的第一图案层；以及 通过蚀刻所述导电层形成的第二图案层， 其中，所述蚀刻图案包括： 提供在所述第一图案层中的多个第一图案；和 提供在所述第二图案层中的多个第二图案， 其中，所述形成所述单元掩模和所述网格框架进一步包括：在形成所述单元掩模之后蚀刻所述多个第二图案以形成所述导电图案。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人三星显示有限公司，其通讯地址为：韩国京畿道；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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