西默有限公司赵颖博获国家专利权
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龙图腾网获悉西默有限公司申请的专利用于光源装置的能量校正模块获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114830036B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080088153.X,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权用于光源装置的能量校正模块是由赵颖博;M·H·T·伊曼设计研发完成,并于2020-12-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于光源装置的能量校正模块在说明书摘要公布了:一种用于深紫外DUV光学光刻的系统包括:光源装置,包括N个光学振荡器,N是大于或等于2的整数,并且所述N个光学振荡器中的每个光学振荡器被配置为响应于激励信号而产生光脉冲;以及控制系统,被耦合至所述光源装置。所述控制系统被配置为基于输入信号来确定用于所述N个光学振荡器中的第一光学振荡器的经校正的激励信号,所述输入信号包括由所述N个光学振荡器中的另一光学振荡器产生的光脉冲的能量性质。
本发明授权用于光源装置的能量校正模块在权利要求书中公布了:1.一种用于深紫外DUV光学光刻的系统,所述系统包括: 光源装置,包括N个光学振荡器,其中N是大于或等于2的整数,并且所述N个光学振荡器中的每个光学振荡器被配置为响应于激励信号而产生光脉冲;以及 控制系统,耦合至所述光源装置,所述控制系统被配置为基于输入信号和传递函数来确定用于所述N个光学振荡器中的第一光学振荡器的经校正的激励信号,所述输入信号包括由所述N个光学振荡器中的第二光学振荡器产生的光脉冲的能量性质,并且所述传递函数与所述N个光学振荡器中的所述第二光学振荡器相关联。
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