信越化学工业株式会社西村晃范获国家专利权
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龙图腾网获悉信越化学工业株式会社申请的专利防护薄膜框架、防护薄膜、曝光原版、及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114930248B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180008413.2，技术领域涉及：G03F1/64；该发明授权防护薄膜框架、防护薄膜、曝光原版、及其应用是由西村晃范设计研发完成，并于2021-01-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本防护薄膜框架、防护薄膜、曝光原版、及其应用在说明书摘要公布了：本发明提供一种防护薄膜框架、防护薄膜、带防护薄膜的曝光原版及其应用、以及半导体或液晶显示器的制造方法，所述防护薄膜框架为构成光刻用的防护薄膜的防护薄膜框架，所述防护薄膜框架的外周侧面形成为流线形状，且形成为所述流线形状的外周部分的宽度为防护薄膜框架的高度的50％以上。本发明通过将防护薄膜框架的外周侧面部设为特定的流线型的形状，而空气的剥离变小，可减小空气阻力，并且，结果可抑制高速扫描运动中的乱流，可抑制曝光后的覆盖的恶化。
本发明授权防护薄膜框架、防护薄膜、曝光原版、及其应用在权利要求书中公布了：1.一种防护薄膜框架，其为构成光刻用的防护薄膜的防护薄膜框架，且其特征在于，具有： 设置于曝光原版的下端面侧； 设置防护薄膜膜片的上端面侧；以及 为流线形状的外周侧面， 其中所述防护薄膜框架的外周侧面的所述流线形状为具有曲线形状或弯曲形状，以使所述防护薄膜框架的所述外周侧面的宽度是自所述下端面侧朝向所述上端面侧逐渐减小，并形成为所述流线形状的所述外周侧面部分的第一宽度b为所述防护薄膜框架的高度的50％以上，且设置于所述曝光原版的所述下端面侧的所述防护薄膜框架的整体宽度w大于设置所述防护薄膜膜片的所述上端面侧的所述防护薄膜框架的第二宽度B。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人信越化学工业株式会社，其通讯地址为：日本东京千代田区丸之内一丁目4番1号(邮编 : 100-0005)；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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