TDK株式会社石间雄也获国家专利权
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龙图腾网获悉TDK株式会社申请的专利层叠线圈部件的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115050567B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210176561.1，技术领域涉及：H01F41/04；该发明授权层叠线圈部件的制造方法是由石间雄也;伊藤光祐;近藤真一;服部慎吾;梅田秀信设计研发完成，并于2022-02-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本层叠线圈部件的制造方法在说明书摘要公布了：本发明的层叠线圈部件1的制造方法包含：使用光敏性导电膏体，通过光刻法，形成导体的工序；使用光敏性绝缘膏体，通过光刻法，形成包覆导体的绝缘膜的工序；通过正性光刻胶，形成保持由绝缘膜包覆的导体的树脂层的工序；在形成了多个导体及绝缘膜后，对树脂层照射紫外线并且显影，去除树脂层的工序；在去除了树脂层后，通过磁性材料，填充由绝缘膜包覆的导体的工序。
本发明授权层叠线圈部件的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种层叠线圈部件的制造方法，其中， 所述层叠线圈部件具备： 素体；以及 线圈，其配置于所述素体内，包含多个导体而构成， 所述层叠线圈部件的制造方法包含： 使用光敏性导电膏体，通过光刻法，形成所述导体的工序； 使用光敏性绝缘膏体，通过光刻法，形成包覆所述导体的绝缘膜的工序； 通过正性光刻胶，形成保持由所述绝缘膜包覆的所述导体的树脂层的工序； 在形成了多个所述导体及所述绝缘膜后，对所述树脂层照射紫外线并且显影，去除所述树脂层的工序；以及 在去除了所述树脂层后，通过磁性材料，填充由所述绝缘膜包覆的所述导体的工序。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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