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龙图腾网获悉上海精测半导体技术有限公司申请的专利理论光谱数据的优化方法、设备及测量方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115129698B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210668928.1，技术领域涉及：G06F16/215；该发明授权理论光谱数据的优化方法、设备及测量方法是由张晓雷;张厚道;张戎;梁洪涛;施耀明设计研发完成，并于2022-06-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本理论光谱数据的优化方法、设备及测量方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种理论光谱数据的优化方法、设备及测量方法，所述理论光谱数据的优化方法包括：获取样品模型，所述样品模型在X、Y方向均具有周期性结构；获取所述样品模型在所述X、所述Y方向上的收敛级次对集合；获取所述收敛级次对集合中的每一个级次对相对于0,0级次对的光特性参量的相对分布或每一个所述级次对的所述光特性参量的绝对分布，并根据所述相对分布或所述绝对分布建立数据表；对所述数据表中的数据进行筛选，符合预设条件的所述数据所对应的级次对为优化级次对；基于RCWA算法，获取所述优化级次对所对应的理论光谱数据。本发明提高了理论光谱数据求解的效率。

本发明授权理论光谱数据的优化方法、设备及测量方法在权利要求书中公布了：1.一种理论光谱数据的优化方法，其特征在于，包括： 获取样品模型，所述样品模型在X、Y方向均具有周期性结构； 对所述样品模型的光特性参量沿所述X、所述Y方向进行傅里叶级数展开，获取所述光特性参量在所述X、所述Y方向上的收敛级次对集合； 获取所述收敛级次对集合中的每一个级次对相对于0,0级次对的光特性参量的相对分布或每一个所述级次对的所述光特性参量的绝对分布，并根据所述相对分布或所述绝对分布建立数据表； 所述获取所述收敛级次对集合中的每一个级次对相对于0,0级次对的光特性参量的相对分布或每一个所述级次对的所述光特性参量的绝对分布，并根据所述相对分布或所述绝对分布建立数据表，包括： 根据所述样品模型的形貌特征对所述样品模型进行分层处理； 获取每一个所述级次对在至少一个波长条件下的至少一个介质分层的相对于0,0级次对的光特性参量的傅里叶系数的模的s次方或者每一个所述级次对在至少一个波长条件下的至少一个介质分层的光特性参量的傅里叶系数的模的s次方，所述s为正整数； 并根据每一个所述级次对在至少一个波长条件下的至少一个介质分层的相对于0,0级次对的光特性参量的傅里叶系数的模的s次方或者每一个所述级次对在至少一个波长条件下的至少一个介质分层的光特性参量的傅里叶系数的模的s次方，建立数据表； 根据预设条件对所述数据表中的数据进行筛选，符合所述预设条件的所述数据所对应的级次对为优化级次对，并根据所述优化级次对得到优化级次对集合； 基于严格耦合波分析法，获取所述优化级次对集合所对应的理论光谱数据。

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