ASML荷兰有限公司H·巴特勒获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利光刻设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115167082B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210996206.9，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光刻设备是由H·巴特勒;M·J·沃奥尔戴尔冬克;M·W·J·E·威吉克曼斯设计研发完成，并于2018-01-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻设备在说明书摘要公布了：描述了一种光刻设备，该设备包括：投影系统PS；200，所述投影系统被配置为将图案化的辐射束B投影到衬底W上；所述投影系统包括多个光学元件200.1、200.2；传感器框架220；第一位置测量系统240，所述第一位置测量系统被配置为测量所述多个光学元件相对于所述传感器框架的位置；其中所述传感器框架包括：‑N个子框架220.1、220.2，N是大于1的整数；‑耦合N个子框架的耦合系统220.3；和‑第二位置测量系统250，所述第二位置测量系统被配置为确定所述N个子框架的相对位置。
本发明授权光刻设备在权利要求书中公布了：1.一种光刻设备，包括： 投影系统，所述投影系统被配置为将图案化的辐射束投影到衬底上；所述投影系统包括多个光学元件； 传感器框架，所述传感器框架包括N个子框架和耦合N个子框架的耦合系统，N是大于1的整数； 至少一个致动器，配置成施加基本上垂直地定向的力在所述传感器框架上； 第一位置测量系统，所述第一位置测量系统被配置为测量所述多个光学元件相对于所述传感器框架的位置； 第二位置测量系统，所述第二位置测量系统被配置为确定所述N个子框架的相对于彼此的相对位置，以及 力框架，其中所述力框架被配置成使用多个第一振动隔离器连接和支撑所述多个光学元件， 其中所述传感器框架由M个振动隔离器支撑在所述力框架上，M是整数且1≤M3，所述M个振动隔离器和所述基本上垂直地定向的力在不同的、非共线的部位处支撑所述传感器框架。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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