北京烁科精微电子装备有限公司周庆亚获国家专利权
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龙图腾网获悉北京烁科精微电子装备有限公司申请的专利抛光装置修整方法、抛光装置及化学机械研磨设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115172224B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210914012.X,技术领域涉及:H10P52/40;该发明授权抛光装置修整方法、抛光装置及化学机械研磨设备是由周庆亚;孟晓云;张文斌;贾若雨;李久芳;吴燕林;杨元元设计研发完成,并于2022-07-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本抛光装置修整方法、抛光装置及化学机械研磨设备在说明书摘要公布了:本发明提供一种抛光装置修整方法、抛光装置及化学机械研磨设备,该抛光装置包括抛光垫和修整装置,该修整装置中配置有与抛光垫对应设置的修整头,该修整方法包括:获取该抛光垫各位置的损耗量;基于该修整头的直径,将抛光垫表面划分为多个修整区域,并选取其中一个该修整区域作为基准修整区域;基于该损耗量计算各该修整区域内的第一平均损耗量;基于各该修整区域与该基准修整区域的第一平均损耗量的对应关系,调整该修整头处于各该修整区域内的转速。通过修整头转速的变化来消除抛光垫表面在研磨过程中产生的不均匀性,修整头的转速调整过程较快,具有延迟短的优点,对抛光垫表面的修整效果更佳。
本发明授权抛光装置修整方法、抛光装置及化学机械研磨设备在权利要求书中公布了:1.一种抛光装置修整方法,所述抛光装置包括抛光垫和修整装置,所述修整装置中配置有与抛光垫对应设置的修整头,其特征在于,包括以下步骤: 获取所述抛光垫各位置的损耗量;所述获取所述抛光垫各位置的损耗量,具体包括:获取修整头修整抛光垫过程中,在所述各位置上,垂直于抛光垫表面方向上的位移量;基于所述位移量,计算所述修整头在所述抛光垫各位置的损耗量; 基于所述修整头的直径,将抛光垫表面划分为多个修整区域,并选取其中一个所述修整区域作为基准修整区域; 基于所述损耗量计算各所述修整区域内的第一平均损耗量; 基于各所述修整区域与所述基准修整区域的第一平均损耗量的对应关系,调整所述修整头处于各所述修整区域内的转速; 其中,所述基于各所述修整区域与所述基准修整区域的第一平均损耗量的对应关系,调整所述修整头处于各所述修整区域内的转速,包括: 判断所述修整头所处修整区域,若位于所述基准修整区域内,将位于所述基准修整区域内的修整头的转速调整为第一基准转速;若位于其他所述修整区域内,计算所述修整区域的第一平均损耗量与所述基准修整区域的第一平均损耗量的第一比值,并基于所述第一比值和所述第一基准转速调整位于其他所述修整区域内的修整头的转速; 所述修整方法还包括: 判断所述修整头是否移动至异常区域; 当修整头移动至所述异常区域时,基于所述异常区域的第二平均损耗量调整修整头的转速; 其中,确定所述异常区域的过程包括: 在同一个所述修整区域中划分出多个检测区域; 求取每个所述检测区域的第二平均损耗量; 判断位于同一个修整区域内的所述第二平均损耗量是否超出预设异常阈值; 若所述第二平均损耗量超出所述预设异常阈值,将所述第二平均损耗量对应的检测区域设定为异常区域。
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