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龙图腾网获悉富士胶片株式会社申请的专利感光化射线性或感放射线性树脂组合物、图案形成方法、抗蚀剂膜及电子器件的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115244464B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180019877.3，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权感光化射线性或感放射线性树脂组合物、图案形成方法、抗蚀剂膜及电子器件的制造方法是由牛山爱菜;小岛雅史;后藤研由;白川三千纮设计研发完成，并于2021-03-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本感光化射线性或感放射线性树脂组合物、图案形成方法、抗蚀剂膜及电子器件的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种能够获得LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：包含锍阳离子的盐，所述锍阳离子具有被含有酸分解性基团的基团取代的芳基且具有至少3个氟原子；及树脂，其通过酸的作用进行分解而极性增大，含有酸分解性基团的基团包含通过酸的作用进行分解而极性增大的基团，含有酸分解性基团的基团不包含氟原子。

本发明授权感光化射线性或感放射线性树脂组合物、图案形成方法、抗蚀剂膜及电子器件的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其包含： 由下述通式S-2表示的化合物；及 树脂，其通过酸的作用进行分解而极性增大， 通式S-2中，Ra表示由下述通式S-3表示的基团，Rb1、Rb2及Rb3分别独立地表示氟原子或具有氟原子的有机基团，Rc1、Rc2及Rc3分别独立地表示与含有酸分解性基团的基团不同且不具有氟原子的有机基团，所述酸分解性基团是指通过酸的作用分解而产生极性基团的基团，X-表示有机阴离子，b1表示0～4的整数，b2表示0～5的整数，b3表示0～5的整数，c1表示0～4的整数，c2表示0～5的整数，c3表示0～5的整数，b1、b2与b3的合计表示1以上且3以下的整数，b1与c1的合计表示0～4的整数，b2与c2的合计表示0～5的整数，b3与c3的合计表示0～5的整数， Rb1中的氟原子的数、Rb2中的氟原子的数及Rb3中的氟原子的数的合计为3个以上， 通式S-3中，表示键合位置，LT1表示单键、-O-、-CO-、-CS-、-COO-、亚烷基、或这些多个连接而成的连接基，RT1表示不含氟原子的、通过酸的作用进行分解而极性增大的基团， 所述不含氟原子的、通过酸的作用进行分解而极性增大的基团是由通式a-1或a-2表示的基团， 通式a-1中，Ra1表示任选地具有不含氟原子的取代基的直链状或支链状的烷基、或任选地具有不含氟原子的取代基的环烷基，表示键合位置， 通式a-2中，Ra2表示任选地具有不含氟原子的取代基的直链状或支链状的烷基、或任选地具有不含氟原子的取代基的环烷基，Ra3表示氢原子、任选地具有不含氟原子的取代基的直链状或支链状的烷基、或任选地具有不含氟原子的取代基的环烷基，Ra2及Ra3任选地彼此键合而形成环，表示键合位置。

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