昆明理工大学毛文元获国家专利权
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龙图腾网获悉昆明理工大学申请的专利一种基于分块变距填充技术的机械密封斜底槽激光加工方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115283839B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211074455.9，技术领域涉及：B23K26/364；该发明授权一种基于分块变距填充技术的机械密封斜底槽激光加工方法是由毛文元;刘小磊;陈硕;宋鹏云;邓强国;许恒杰;孙雪剑设计研发完成，并于2022-09-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于分块变距填充技术的机械密封斜底槽激光加工方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于分块变距填充技术的机械密封斜底槽激光加工方法，具体包括以下步骤：首先利用AutoCAD软件绘制斜底槽图形，并对其进行分块处理形成多个子区域；其次分别对各个子区域进行变距填充，获得斜底槽加工图形；最后导入斜底槽加工图形、装夹试件、调焦及设置工艺参数，完成斜底槽加工。所述方法能够实现机械密封斜底槽加工，方法简单，可行性强。
本发明授权一种基于分块变距填充技术的机械密封斜底槽激光加工方法在权利要求书中公布了：1.一种基于分块变距填充技术的机械密封斜底槽激光加工方法，其特征在于，包括以下步骤： 1根据斜底槽的端面几何参数，利用AutoCAD软件绘制斜底槽图形； 2根据斜底槽的截面几何参数，沿斜底槽最深侧至最浅侧方向，对斜底槽图形进行分块处理形成若干子区域； 3分别对各个子区域进行变距填充，获得斜底槽加工图形；具体为利用AutoCAD的填充功能，采用逐渐增大的填充间距依次对各个子区域进行填充，并将填充好的斜底槽加工图形保存为PLT格式；所述变距填充是指根据各个子区域的目标槽深，选择不同的填充间距依次对斜底槽图形进行填充，槽深越深的子区域，所采用的填充间距越小，填充间距1~100μm； 4将PLT格式的斜底槽加工图形导入至标刻机软件中，装夹固定好试件，调整激光器升降台高度使激光光斑聚焦于试件表面，设置激光功率、重复频率、扫描速度、标刻次数工艺参数，完成斜底槽加工。
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