ASML荷兰有限公司M·J-J·维兰德获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利孔径组件、射束操纵器单元、操纵带电粒子束的方法以及带电粒子投射装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115362525B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180027125.1，技术领域涉及：H01J37/04；该发明授权孔径组件、射束操纵器单元、操纵带电粒子束的方法以及带电粒子投射装置是由M·J-J·维兰德设计研发完成，并于2021-04-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本孔径组件、射束操纵器单元、操纵带电粒子束的方法以及带电粒子投射装置在说明书摘要公布了：本公开涉及用于操纵带电粒子束的装置和方法。在一个布置中，提供了孔径组件，孔径组件包括第一孔径主体和第二孔径主体。第一孔径主体中的孔径与第二孔径主体中的孔径对准。对准允许带电粒子束穿过孔径组件。第一孔径主体包括第一电极系统，第一电极系统用于向第一孔径主体中的每个孔径的孔径周表面施加电势。第一电极系统包括多个电极。每个电极彼此电隔离，并且被同时电连接到第一孔径主体中的多个孔径组中的一个不同的孔径的孔径周表面。
本发明授权孔径组件、射束操纵器单元、操纵带电粒子束的方法以及带电粒子投射装置在权利要求书中公布了：1.一种用于带电粒子投射装置的射束操纵器单元的像差校正器的孔径组件，包括： 第一孔径主体； 第二孔径主体，所述第一孔径主体被配置为是沿着所述带电粒子的路径的所述第二孔径主体的上行射束，所述第一孔径主体中的多个孔径与所述第二孔径主体中的对应多个孔径对准，所述对准使得允许相应多个带电粒子束中的每个带电粒子束的路径通过穿过所述第一孔径主体和所述第二孔径主体中的相应孔径而穿过所述孔径组件；所述第一孔径主体中的所述孔径的至少一个子集中的每个所述孔径由细长狭缝组成；并且所述第二孔径主体中的每个对应孔径由开口组成，所述开口具有与所述细长狭缝不同的形状并且至少在平行于所述细长狭缝的最长轴的方向上小于所述细长狭缝；以及 电压源连接件，被配置为向所述第一孔径主体和所述第二孔径主体中的至少一个孔径主体的所述孔径的孔径周表面施加电势差。
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