应用材料公司刘树坤获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利具有全晶片激光加热的外延腔室获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115516617B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180033318.8，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权具有全晶片激光加热的外延腔室是由刘树坤;阿德尔·乔治·塔诺;帕特里克·C·杰尼斯;叶祉渊设计研发完成，并于2021-08-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有全晶片激光加热的外延腔室在说明书摘要公布了：公开一种用于在热处理腔室内加热基板的设备。该设备包括腔室主体、气体进口、气体出口、上窗、下窗、基板支撑件和上部加热装置。上部加热装置是激光加热装置，并且包括一个或多个激光组件。激光组件包括光源、冷却板、光纤和照射窗。
本发明授权具有全晶片激光加热的外延腔室在权利要求书中公布了：1.一种用于基板处理的腔室，包含： 腔室主体； 气体进口，所述气体进口穿过所述腔室主体的侧壁而设置； 气体出口，所述气体出口穿过所述腔室主体的侧壁并且与所述气体进口相对地设置； 上窗； 下窗；和 上部加热装置，所述上部加热装置进一步包含： 上冷却板； 一个或多个上基座构件，所述一个或多个上基座构件设置在所述上冷却板上； 一个或多个上光源； 一根或多根光纤，所述一根或多根光纤在第一端处连接至所述一个或多个上光源，并且在第二端处连接至所述上基座构件；和 照射窗，所述照射窗设置在所述上基座构件内并且在所述一根或多根光纤与所述上窗之间。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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