上海微电子装备(集团)股份有限公司安福平获国家专利权
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龙图腾网获悉上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利大视场投影物镜及光刻机获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115524927B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110710763.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权大视场投影物镜及光刻机是由安福平;储兆祥设计研发完成，并于2021-06-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本大视场投影物镜及光刻机在说明书摘要公布了：本发明提供一种大视场投影物镜及光刻机，所述大视场投影物镜包括从物方开始沿光轴依次排列的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组和第四透镜组。本发明中仅使用了四组镜组，能够使得光学结构更加紧凑，降低了成本，并提升了投影物镜系统的透过率，从而提高曝光效率。另外，所述第一透镜组的焦距f1、所述第二透镜组的焦距f2、所述第三透镜组的焦距f3和所述第四透镜组的焦距f4满足1.06|f1f2|1.26；1.76|f2f3|1.90；1.80|f3f4|2.00；3.85|f1f4|4.25，如此配置，在实现扩大曝光视场的同时还能够实现高的分辨率。
本发明授权大视场投影物镜及光刻机在权利要求书中公布了：1.一种大视场投影物镜，用于将物方的图像投影在像方上，其特征在于，包括从物方开始沿光轴依次排列的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组和第四透镜组，所述第一透镜组、所述第二透镜组、所述第三透镜组和所述第四透镜组均具有正光焦度，所述第一透镜组、所述第二透镜组、所述第三透镜组和所述第四透镜组均包括非球面透镜，每个所述非球面透镜具有一个非球面表面，所述第一透镜组、所述第二透镜组、所述第三透镜组和所述第四透镜组中的所述非球面透镜的数量之和小于等于11，其中，所述第一透镜组的焦距、所述第二透镜组的焦距、所述第三透镜组的焦距和所述第四透镜组的焦距满足如下关系式： 1.06|f1f2|1.26； 1.76|f2f3|1.90； 1.80|f3f4|2.00； 3.85|f1f4|4.25； 其中，f1表示所述第一透镜组的焦距，f2表示所述第二透镜组的焦距，f3表示所述第三透镜组的焦距，f4表示所述第四透镜组的焦距。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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