中微半导体设备(上海)股份有限公司段蛟获国家专利权
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龙图腾网获悉中微半导体设备(上海)股份有限公司申请的专利一种等离子体处置装置用构件的翻新装置及翻新方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115692148B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110871391.4，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权一种等离子体处置装置用构件的翻新装置及翻新方法是由段蛟;杨桂林设计研发完成，并于2021-07-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种等离子体处置装置用构件的翻新装置及翻新方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种等离子体处置装置用构件的翻新装置及翻新方法，所述构件为待翻新构件，该待翻新构件包括构件本体、覆盖在构件本体上的耐腐蚀涂层及覆盖在所述耐腐蚀涂层上的氟化层，该翻新装置包含：加热组件，用于对待翻新构件进行加热，使氟化层升华而所述耐腐蚀涂层保持原状以形成翻新构件。本发明通过控制加热区域，只对待去除的氟化层快速加热，利用氟化层与耐腐蚀涂层本体的物理特性差异去除氟化层，使翻新后的耐腐蚀涂层不含有氟化层，同时由于耐腐蚀涂层及构件本体所承受的温度并不高，不会破坏耐腐蚀涂层和构件本体，使得翻新的耐腐蚀涂层表面回到原始状态，即，耐腐蚀涂层表面接近新品状态，使得构件可以继续使用，大大降低运行成本。
本发明授权一种等离子体处置装置用构件的翻新装置及翻新方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处置装置用构件的翻新装置，所述构件为待翻新构件，所述待翻新构件包括构件本体、覆盖在构件本体上的耐腐蚀涂层及覆盖在所述耐腐蚀涂层上的氟化层，其特征在于，该翻新装置包含：加热组件，用于对待翻新构件进行加热，使氟化层升华而所述耐腐蚀涂层保持原状以形成翻新构件；其中，所述氟化层的熔点低于所述耐腐蚀涂层的熔点。
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