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龙图腾网获悉宿迁学院产业技术研究院申请的专利一种多重灰度掩膜连续成型方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116834275B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310717113.2，技术领域涉及：B29C64/129；该发明授权一种多重灰度掩膜连续成型方法是由陈林;王宜怀;孙淼;张露;孟雪;史洪玮;王力申;郑国莉;朱银杏;杨康设计研发完成，并于2023-06-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种多重灰度掩膜连续成型方法在说明书摘要公布了：本申请提供一种多重灰度掩膜连续成型方法，包括：对三维模型等厚切片，然后将其按照投影设备拼接模式进行切分处理；使用边缘能量均匀化方法消除拼接处的接缝；按照固化顺序将切分后的单元掩膜图像以组合拼接投影的方式曝光至树脂表面，在每一层切片固化过程中，利用最佳灰度调制公式对投影过程中的紫外光进行控制，完成单层固化。对于流动性较好的树脂浆料，本申请的多重灰度掩膜连续成型方案能以较高的质量完成大幅面三维模型的连续成型工作，模型实体表面质量好，成型精度较高。对于流动性较差的陶瓷浆料，相对于传统CLIP制备的三维模型，模型尺寸有所提高，同时保持了CLIP成型精度高、打印速度快的优势，表明该方案具有较高的实际应用价值。

本发明授权一种多重灰度掩膜连续成型方法在权利要求书中公布了：1.一种多重灰度掩膜连续成型方法，其特征在于，包括： 对三维模型等厚切片，然后将其按照投影设备拼接模式进行切分处理； 使用边缘能量均匀化方法消除拼接处的接缝； 按照固化顺序将切分后的单元掩膜图像以组合拼接投影的方式曝光至树脂表面，在每一层切片固化过程中，利用最佳灰度调制公式对投影过程中的紫外光进行控制，完成单层固化； 所述使用边缘能量均匀化方法消除拼接处的接缝，包括： 根据投影设备拼接模式对切片掩膜图像进行切分、像素填充，得到每个投影设备的单元掩膜图像； 通过以非线性衰减的方式生成一组对称灰度虚拟掩膜图像，所述非线性衰减的方式为采用指数衰减函数和三角衰减函数相结合的方式构造灰度虚拟掩膜图像的生成曲线； 按照投影顺序将所述灰度虚拟掩膜图像与所述单元掩膜图像相融合； 所述最佳灰度调制公式如下： gδ,t＝mδ+ginit,t∈[0,T] 其中，δ为t时刻单位树脂液体的无量纲位置；ginit为灰度调制的初始值，m是用于调整单位液体当前位置与成型平台中心位置比例的参数，T为使用单一紫外光时的单层固化时间。

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