中冶武汉冶金建筑研究院有限公司;中国一冶集团有限公司何见林获国家专利权
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龙图腾网获悉中冶武汉冶金建筑研究院有限公司;中国一冶集团有限公司申请的专利原位碳化硅晶须增韧铁沟浇注料及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117700239B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311671110.6，技术领域涉及：C04B35/66；该发明授权原位碳化硅晶须增韧铁沟浇注料及其制备方法是由何见林;邵荣丹;魏建修;单江博设计研发完成，并于2023-12-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本原位碳化硅晶须增韧铁沟浇注料及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种原位碳化硅晶须增韧铁沟浇注料及其制备方法。按重量份数计，铁沟浇注料包括以下原料：电熔致密刚玉65～75份，碳化硅10～18份，活性氧化铝微粉4～10份，水泥1～2份，纳米二氧化硅2～4份，多孔炭材料1～3份，碳黑1～2份，金属硅粉2～3份，复合防爆剂1～3份，抗氧化剂0.2～0.5份，复合减水剂0.1～0.3份，催化剂0.1～0.4份；其中：预先将多孔炭材料、碳黑、纳米二氧化硅、金属硅粉和催化剂通过球磨混合。本发明所得原位碳化硅晶须增韧铁沟浇注料具有良好的抗氧化性、耐高温冲刷性能、耐渣铁化学侵蚀性、良好的抗热震稳定性能、工艺简单、使用寿命高等特点。
本发明授权原位碳化硅晶须增韧铁沟浇注料及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种原位碳化硅晶须增韧铁沟浇注料，其特征在于，按质量份数计，包括以下原料：电熔致密刚玉65~75份，碳化硅10~18份，活性氧化铝微粉4~10份，水泥1~2份，纳米二氧化硅2~4份，多孔炭材料1~3份，碳黑1~2份，金属硅粉2~3份，复合防爆剂1~3份，抗氧化剂0.2~0.5份，复合减水剂0.1~0.3份，催化剂0.1~0.4份；其中： 预先将多孔炭材料、碳黑、纳米二氧化硅、金属硅粉和催化剂通过球磨混合，制得生成碳化硅晶须的反应前驱体粉末； 所述多孔炭材料的粒度≤2mm，孔径分布范围0.1~50μm。
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