芝浦机械电子装置株式会社石原淳司获国家专利权
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龙图腾网获悉芝浦机械电子装置株式会社申请的专利晶片收纳容器清洗装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117732823B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311167620.X，技术领域涉及：B08B9/34；该发明授权晶片收纳容器清洗装置是由石原淳司;宫迫久顕;西部幸伸设计研发完成，并于2023-09-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶片收纳容器清洗装置在说明书摘要公布了：本发明抑制清洗液进入门的内部空间。实施方式的晶片收纳容器清洗装置为对晶片收纳容器的门进行清洗的晶片收纳容器清洗装置，所述晶片收纳容器的门在其中一面具有钥匙孔，所述钥匙孔通过在插入了闩锁钥匙的状态下旋转而能够切换与晶片收纳容器主体的锁定解锁，在侧面形成有在所述锁定时供闩锁能够突出的突出用孔，所述晶片收纳容器清洗装置包括：门保持部，对所述门进行保持；清洗液喷嘴，对所述门的另一面供给清洗液；以及气体喷嘴，在至少从所述清洗液喷嘴向所述门供给所述清洗液时，产生阻碍所述清洗液从所述突出用孔侵入的气体的流动。
本发明授权晶片收纳容器清洗装置在权利要求书中公布了：1.一种晶片收纳容器清洗装置，为对晶片收纳容器的门进行清洗的晶片收纳容器清洗装置，所述晶片收纳容器的门在其中一面具有钥匙孔，所述钥匙孔通过在插入了闩锁钥匙的状态下旋转而能够切换与晶片收纳容器主体的锁定解锁，在侧面形成有在所述锁定时供闩锁能够突出的突出用孔，所述晶片收纳容器清洗装置的特征在于包括： 门保持部，对所述门进行保持； 清洗液喷嘴，对所述门的另一面供给清洗液； 气体喷嘴，在至少从所述清洗液喷嘴向所述门供给所述清洗液时，产生阻碍所述清洗液从所述突出用孔侵入的气体的流动； 开闭盖，相对于清洗槽开口部能够开闭地设置，且所述开闭盖包括所述门保持部；以及 清洗槽主体，通过所述开闭盖关闭所述清洗槽开口部，而形成处理空间， 其中， 所述气体喷嘴在由所述门保持部保持所述门的状态下，从所述门的所述其中一面之侧，向包括所述侧面在内的形成于所述开闭盖与所述门之间的气体供给空间供给所述气体。
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