北京理工大学重庆创新中心向南希获国家专利权
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龙图腾网获悉北京理工大学重庆创新中心申请的专利一种低共熔溶剂及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117942333B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410034798.5，技术领域涉及：A61K31/37；该发明授权一种低共熔溶剂及其制备方法和应用是由向南希;顾涛;刘利娟;张春桥;赵久会;蒋小燕设计研发完成，并于2024-01-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种低共熔溶剂及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明属于低共熔溶剂技术领域，具体涉及一种低共熔溶剂及其制备方法和应用，低共熔溶剂包括羟基酪醇和蛇床子素，羟基酪醇和蛇床子素的摩尔比为1‑9：9‑1，低共熔溶剂的制备方法包括以下步骤：1洗净反应器，经干燥处理，打开搅拌以及加热，加热温度在50‑70℃，通入惰性气体保护；2按比例加入羟基酪醇和蛇床子素，待熔化后保持搅拌与惰性气体保护，继续保温1‑2小时制得低共熔溶剂，将本低共熔溶剂经过超分子微囊制备后得到超分子微囊抑菌软膏，抑菌软膏应用在皮肤抑菌的药物或日化品，促进羟基酪醇皮肤渗透，降低刺激性。
本发明授权一种低共熔溶剂及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种低共熔溶剂，其特征在于，由羟基酪醇和蛇床子素制成，羟基酪醇和蛇床子素的摩尔比为1-9：9-1； 制备方法包括以下步骤： 1洗净反应器，经干燥处理，打开搅拌以及加热，加热温度在50-70℃，通入惰性气体保护； 2按比例加入羟基酪醇和蛇床子素，待熔化后保持搅拌与惰性气体保护，继续保温1-2小时制得低共熔溶剂。
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