株式会社理学川上裕幸获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社理学申请的专利荧光X射线分析装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118556183B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202380015622.9，技术领域涉及：G01N23/223；该发明授权荧光X射线分析装置是由川上裕幸设计研发完成，并于2023-04-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本荧光X射线分析装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种荧光X射线分析装置，其通过使薄板状样品的背面的状态为一样，不会产生因测定位置所致的测定条件的差异。一种荧光X射线分析装置具备：X射线源，其用1次X射线照射板状的样品的表面；探测器，其测定荧光X射线的强度；样品台，其载置样品；分析部，其在样品的表面的多个测定位置进行分析；背景校正盖，其具有沿样品台的外缘的一部分形状的外缘部分，与样品台的外侧相邻，并且表面配置在与样品台的表面大致同一平面上；移动机构，其使样品台移动，以便1次X射线照射到样品的表面的任意测定位置，其中，移动机构使背景校正盖随着样品台的移动而移动，当测定位置的样品背面无样品台时，使背景校正盖移动至测定位置的样品背面。
本发明授权荧光X射线分析装置在权利要求书中公布了：1.一种荧光X射线分析装置，其特征在于，具备： X射线源，其用一次X射线照射板状的样品的表面； 探测器，其测定从所述一次X射线照射的所述样品产生的荧光X射线的强度； 样品台，其载置所述样品； 分析部，其基于所述探测器在所述样品的表面的多个测定位置测定出的荧光X射线的强度而进行分析； 至少一个背景校正盖，其具有沿所述样品台的外缘的一部分的形状的外缘部分，与所述样品台的外侧相邻，并且表面配置在与所述样品台的表面同一平面上；以及 移动机构，其使所述样品台移动，以使所述一次X射线照射到所述样品的表面的任意测定位置， 所述移动机构使所述背景校正盖随着所述样品台的移动而移动，当测定位置的所述样品的背面无所述样品台时，使所述背景校正盖移动至该测定位置的所述样品的背面。
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