京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司刘浩获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利掩膜版及其制备方法、掩膜版组件、蒸镀设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119392163B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411578825.1，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权掩膜版及其制备方法、掩膜版组件、蒸镀设备是由刘浩;关新兴;曾琪皓;毕娜;白珊珊;李娜设计研发完成，并于2024-11-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩膜版及其制备方法、掩膜版组件、蒸镀设备在说明书摘要公布了：本申请提供一种掩膜版及其制备方法、掩膜版组件、蒸镀设备。该掩膜版包括阵列排布的多个第一开口和限定出多个第一开口的支撑部，通过在支撑部的支撑面上设置至少一个支撑结构，支撑结构的一端位于第一开口的一侧，支撑结构的另一端向远离第一开口中心的方向以及远离支撑面的方向倾斜，从而可以利用倾斜的支撑结构为被支撑物体提供倾斜的支撑力，这样在改善被支撑物体下垂引起的混色等不良问题的同时，倾斜的支撑力可以对被支撑物体起到拉伸的效果，改善被支撑物体上的褶皱问题。
本发明授权掩膜版及其制备方法、掩膜版组件、蒸镀设备在权利要求书中公布了：1.一种掩膜版，包括阵列排布的多个第一开口和限定出所述多个第一开口的支撑部，所述支撑部的支撑面上设置至少一个支撑结构，所述支撑结构的一端位于所述第一开口的一侧，所述支撑结构的另一端向远离所述第一开口中心的方向以及远离所述支撑面的方向倾斜延伸；所述支撑结构的形状与所述第一开口的形状相匹配，所述支撑结构包括相对的第一边和第二边以及相对的第三边和第四边，所述第一边、所述第三边、所述第二边和所述第四边顺序连接且连接处具有倒角。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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