买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉北京精雕科技集团有限公司申请的专利晶圆衬底定位方法、装置、设备、存储介质及程序产品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119581382B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411525884.2，技术领域涉及：H10P72/50；该发明授权晶圆衬底定位方法、装置、设备、存储介质及程序产品是由王凯;韩银平;王尧;王立鹏设计研发完成，并于2024-10-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本晶圆衬底定位方法、装置、设备、存储介质及程序产品在说明书摘要公布了：本发明提供一种晶圆衬底定位方法、装置、设备、存储介质及程序产品，涉及半导体技术领域，该方法不依赖于晶圆衬底图像和边缘检测算法，而是通过晶圆衬底旋转过程中采集的数据进行计算，确定晶圆衬底与旋转吸盘之间的偏差，并基于晶圆衬底与旋转吸盘之间的偏差进行定位纠偏，可避免由于图像质量下降导致的定位效果不佳的问题，提高晶圆衬底定位结果的准确性和可靠性。

本发明授权晶圆衬底定位方法、装置、设备、存储介质及程序产品在权利要求书中公布了：1.一种晶圆衬底定位方法，其特征在于，应用于晶圆衬底定位装置，所述晶圆衬底定位装置包括纠偏组件和调整机构，所述纠偏组件包括纠偏安装架、旋转吸盘和纠偏传感器，所述旋转吸盘转动连接于所述纠偏安装架，所述纠偏传感器安装于所述纠偏安装架，所述调整机构和所述纠偏组件在第一方向上相对设置； 所述方法包括： 获取标定件的半径R、所述纠偏传感器对所述标定件的第一遮挡量t和第一基准线LA； 将待定位晶圆衬底放置于所述旋转吸盘上，控制所述旋转吸盘旋转，并在所述旋转吸盘旋转过程中，实时采集所述待定位晶圆衬底的转动角度θi和所述纠偏传感器对所述待定位晶圆衬底的第二遮挡量Pi； 基于所述标定件的半径R、所述第二遮挡量Pi和所述第一遮挡量t，确定所述待定位晶圆衬底边缘上的点到所述旋转吸盘中心的距离Li； 判断所述待定位晶圆衬底的转动角度θi和所述待定位晶圆衬底边缘上的点到所述旋转吸盘中心的距离Li是否为所述待定位晶圆衬底的第二圆边上的数据； 若所述待定位晶圆衬底的转动角度θi和所判述待定位晶圆衬底边缘上的点到所述旋转吸盘中心的距离Li为所述待定位晶圆衬底的第二圆边上的数据，则根据所述待定位晶圆衬底的转动角度θi和所述待定位晶圆衬底边缘上的点到所述旋转吸盘中心的距离Li，基于最小二乘法拟合所述待定位晶圆衬底的圆心在直角坐标系中的圆心坐标a，b；所述直角坐标系以所述旋转吸盘中心为原点、以所述第一方向为横轴、以第二方向为纵轴，所述第二方向与所述第一方向垂直； 基于所述圆心坐标a，b，确定所述待定位晶圆衬底的圆心与所述旋转吸盘的中心之间的中心位置偏差δ和角度偏差β； 根据所述中心位置偏差δ、所述角度偏差β和所述第一基准线LA，通过所述调整机构，对所述待定位晶圆衬底的圆心进行定位纠偏； 对所述待定位晶圆衬底的圆心完成定位纠偏之后，对所述待定位晶圆衬底的V字型缺口进行定位纠偏； 所述根据所述中心位置偏差δ、所述角度偏差β和所述第一基准线LA，通过所述调整机构，对所述待定位晶圆衬底的圆心进行定位纠偏，包括： 基于所述角度偏差β，控制所述旋转吸盘旋转，将所述待定位晶圆衬底的圆心旋转至第二基准线LB上；所述第二基准线LB经过所述旋转吸盘中心，且所述第二基准线与所述第一基准线LA平行； 基于所述中心位置偏差δ，通过所述调整机构移动所述待定位晶圆衬底，使得所述待定位晶圆衬底的圆心与所述旋转吸盘中心同轴； 所述对所述待定位晶圆衬底的圆心完成定位纠偏之后，对所述待定位晶圆衬底的V字型缺口进行定位纠偏，包括： 在确定所述待定位晶圆衬底的圆心与所述旋转吸盘中心同轴之后，得到待定位同轴晶圆衬底； 控制所述旋转吸盘旋转，并在所述旋转吸盘旋转过程中，实时采集所述待定位同轴晶圆衬底的转动角度θi′和所述纠偏传感器对所述待定位同轴晶圆衬底的第三遮挡量Pi′； 基于所述标定件的半径R、所述第一遮挡量t和所述第三遮挡量Pi′，确定所述待定位同轴晶圆衬底边缘上的点到所述旋转吸盘中心的距离Li′； 判断所述待定位同轴晶圆衬底的转动角度θi′和所述待定位同轴晶圆衬底边缘上的点到所述旋转吸盘中心的距离Li′是否为所述待定位同轴晶圆衬底的V字型缺口上的数据； 若所述待定位同轴晶圆衬底的转动角度θi′和所述待定位同轴晶圆衬底边缘上的点到所述旋转吸盘中心的距离Li′为所述待定位同轴晶圆衬底的V字型缺口上的数据，则采用四次多项式对所述V字型缺口的极坐标θi′,Li′进行拟合计算，确定所述V字型缺口的角度偏差； 基于所述V字型缺口的角度偏差，控制所述旋转吸盘旋转，将所述V字型缺口的最底部旋转至所述第二基准线LB上； 所述四次多项式的公式为： L＝a0+a1*θ+a2*θ2+a3*θ3+a4*θ4； 其中，L为对所述极坐标θi′,Li′中的Li′进行拟合的结果；θ为对所述极坐标θi′,Li′中的θi′进行拟合的结果；a1为第一项系数、a2为第二项系数、a3为第三项系数、a4为第四项系数；a0为第五项系数； 所述V字型缺口的角度偏差为对所述四次多项式进行求导运算得到的最小根值。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人北京精雕科技集团有限公司，其通讯地址为：102308 北京市门头沟区石龙工业区永安路10号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。