江苏富乐华半导体科技股份有限公司曹海洋获国家专利权
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龙图腾网获悉江苏富乐华半导体科技股份有限公司申请的专利一种纳米级防氧化膜膜厚的测量方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120064715B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510246859.9，技术领域涉及：G01Q60/24；该发明授权一种纳米级防氧化膜膜厚的测量方法是由曹海洋;李炎;王子成;孙甜设计研发完成，并于2025-03-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种纳米级防氧化膜膜厚的测量方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种纳米级防氧化膜膜厚的测量方法，涉及纳米级膜膜厚测量技术领域，包括以下操作步骤：将含有纳米级防氧化膜的金属箔置于盐酸溶液中浸泡，剩余的液体记为萃取液，记录萃取液体积为V1；将萃取液稀释，记录稀释倍率为a；将稀释后萃取液进行超声处理，取液，滴定在抛光硅片上，记录取液体积为V2；将其在保护氛围下加热处理，测量润湿铺展的面积，记录润湿面积为S2；通过原子力显微镜对所得样品的膜厚进行多点测量并计算平均膜厚，其为最小碎片膜厚h2；将测量图片通过像素点分析黑点在图片的占比，记录黑点占比比例为b；代入公式h1＝a×S2×V1×b×h2V2×S1计算出纳米级防氧化膜的膜厚h1。
本发明授权一种纳米级防氧化膜膜厚的测量方法在权利要求书中公布了：1.一种纳米级防氧化膜膜厚的测量方法，其特征在于：包括以下操作步骤： 步骤1：准备样品：以含有纳米级防氧化膜的铜箔作为样品； 步骤2：将样品置于盐酸溶液中浸泡处理；取出样品，剩余的液体记为萃取液，记录萃取液体积为V1； 步骤3：将萃取液稀释，记录稀释倍数为a； 步骤4：将步骤3所得的稀释后萃取液进行超声处理，取液，滴定在抛光硅片上，自由润湿铺展，记录取液体积为V2； 步骤5：将步骤4所得样品在保护氛围下加热处理，测量润湿铺展的面积，记录润湿面积为S2； 步骤6：通过原子力显微镜对步骤5所得样品的膜厚进行多点测量并计算平均膜厚，其为最小碎片膜厚，记录最小碎片厚度为h2； 步骤7：同步将步骤6中的测量图片，通过像素点分析黑点在图片的占比，记录黑点占比比例为b； 步骤8：通过公式计算出步骤1中样品的纳米级防氧化膜的膜厚h1，公式为h1＝a×S2×V1×b×h2V2×S1。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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