应用材料公司大卫·纳普获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利使用卤化物的改良蚀刻选择性获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120642035B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202480011100.6，技术领域涉及：H10P50/24；该发明授权使用卤化物的改良蚀刻选择性是由大卫·纳普;乔锋;周海龙;赫军凯;符谦;马克·J·萨利;杰弗里·安西斯;崔子英设计研发完成，并于2024-02-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本使用卤化物的改良蚀刻选择性在说明书摘要公布了：一种方法包括执行干式蚀刻工艺以移除在交替层堆叠的第二层上设置的第一层的一部分。所述第一层包括第一材料且所述第二层包括与所述第一材料不同的第二材料，并且所述干式蚀刻工艺在所述第二材料的表面上形成包括副产物的钝化层。所述第一层的所述部分的一定量的第一材料在执行所述干式蚀刻工艺之后余留。所述方法进一步包括引入卤化物气体以改良所述第二材料的所述表面上的所述钝化层。
本发明授权使用卤化物的改良蚀刻选择性在权利要求书中公布了：1.一种方法，所述方法包含： 执行干式蚀刻工艺以移除在交替层堆叠的第二层上设置的第一层的一部分，其中所述第一层包含第一材料并且所述第二层包含与所述第一材料不同的第二材料，其中所述干式蚀刻工艺在所述第二材料的表面上形成包含副产物的钝化层，并且其中所述第一层的所述部分的一定量的第一材料在执行所述干式蚀刻工艺之后余留；以及 引入卤化物气体以至少部分地修复所述第二材料的所述表面上的所述钝化层。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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