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龙图腾网获悉深圳光启超材料微电子技术有限公司;佛山顺德光启尖端装备有限公司申请的专利一种复合电磁超材料膜、其制备方法及应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120709725B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411996308.6，技术领域涉及：H01Q15/00；该发明授权一种复合电磁超材料膜、其制备方法及应用是由刘若鹏;郭觉炎;金曦;王旭伟设计研发完成，并于2024-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种复合电磁超材料膜、其制备方法及应用在说明书摘要公布了：本发明提供了一种复合电磁超材料膜、其制备方法及应用。制备方法包括：预先对聚合物膜的一侧表面进行等离子预处理，得到预处理表面；设置电磁超材料层的步骤包括：采用镀膜工艺将金属吸波材料沉积在预处理表面，形成电磁超材料层，进而得到包括有电磁超材料层的复合电磁超材料膜；复合电磁超材料膜具有一长度方向，电磁波透波率沿所述复合电磁超材料膜的长度方向由‑40dB～‑20dB逐渐增加至‑2dB～‑0.1dB。本发明通过镀膜工艺，实现了电磁材料所形成的电磁超材料层与聚合物膜的良好复合，进而实现了透波率线性渐变，大大拓宽了能够满足的透波率范围，使得电磁性能更优匹配。

本发明授权一种复合电磁超材料膜、其制备方法及应用在权利要求书中公布了：1.一种复合电磁超材料膜的制备方法，包括在聚合物膜的一侧表面设置电磁超材料层的步骤，其特征在于，在设置所述电磁超材料层之前，所述制备方法包括：预先对所述聚合物膜的一侧表面进行等离子预处理，得到预处理表面； 设置所述电磁超材料层的步骤包括：采用镀膜工艺将金属吸波材料沉积在所述预处理表面，形成所述电磁超材料层，进而得到包括有所述电磁超材料层的所述复合电磁超材料膜； 所述镀膜工艺包括依次进行的： 镀膜初始速度为V1的第一镀膜阶段、镀膜初始速度为V2的第二镀膜阶段、镀膜初始速度为V3的第三镀膜阶段、以及镀膜初始速度为V4的第四镀膜阶段，且： 所述V1为0.1mmin~0.5mmin；所述V2为1.5mmin~2.0mmin；所述V3为3.0mmin~3.5mmin；所述V4为4.0mmin~5.0mmin； 所述复合电磁超材料膜具有一长度方向，所述复合电磁超材料膜的电磁波透波率沿所述复合电磁超材料膜的所述长度方向由-40dB~-20dB逐渐增加至-2dB~-0.1dB。

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