杭州科百特半导体分离膜有限公司贾建东获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州科百特半导体分离膜有限公司申请的专利一种聚醚砜纳米级多孔滤膜及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120961007B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511492597.0，技术领域涉及：B01D71/68；该发明授权一种聚醚砜纳米级多孔滤膜及其制备方法和应用是由贾建东;方健设计研发完成，并于2025-10-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种聚醚砜纳米级多孔滤膜及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本申请涉及一种聚醚砜纳米级多孔滤膜及其制备方法和应用，该滤膜包括主体，主体内具有非定向曲折通路，主体包括预过滤层和用于截留杂质的分离层，分离层的厚度为0.4‑13μm；分离层包括形成多孔结构的分离纤维，分离纤维的SEM平均直径为15‑55nm；滤膜的PMI平均孔径为10‑80nm，孔隙率为40%‑80%；滤膜的纤维密实度为1.1‑1.5gcm3；该滤膜在具有纳米级孔洞的基础上，通过薄分离层、高纤维密实度、合适纤维粗细和较高孔隙率协同作用下在满足对纳米级杂质高效截留的基础上，还具有优异的机械强度和较高的通量，适合用于半导体制程中温和体系的纳米级超纯过滤。
本发明授权一种聚醚砜纳米级多孔滤膜及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种聚醚砜纳米级多孔滤膜，其特征在于：包括主体，所述主体内具有非定向曲折通路， 所述主体包括预过滤层和用于截留杂质的分离层，所述分离层的厚度为0.4-13μm； 所述分离层包括形成多孔结构的分离纤维，所述分离纤维的SEM平均直径为15-55nm； 所述滤膜的PMI平均孔径为10-80nm，孔隙率为40%-80%；所述滤膜的纤维密实度为1.1-1.5gcm3。
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