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龙图腾网获悉福建众辰精密机芯有限公司申请的专利一种基于印刷过程中材料批次可追溯的管理系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121213105B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511756903.7，技术领域涉及：G06Q30/018；该发明授权一种基于印刷过程中材料批次可追溯的管理系统是由魏振江;王文修;石挺;郭俊新;林松斌设计研发完成，并于2025-11-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于印刷过程中材料批次可追溯的管理系统在说明书摘要公布了：本发明属于印刷材料追溯管理技术领域，本发明提供了一种基于印刷过程中材料批次可追溯的管理系统，包括：数据采集模块：采集印刷设备在实际生产过程中的连续过程数据；批次特征构建模块：基于连续过程数据，对每一材料批次在独立使用状态下的印刷行为，构建批次特征向量；混合批次解耦识别模块：引入信号分离方法构建信号解混模型，将连续过程数据以及批次特征向量作为信号解混模型的输入。通过引入信号分离方法构建信号混解模型，将混合的印刷过程信号分解为各个已知批次特征的组合，输出量化的特征贡献度矩阵，从而能够精确地知道在工单生产的每一时刻，每个材料批次的贡献比例，优化了混合状态下无法追溯的问题。

本发明授权一种基于印刷过程中材料批次可追溯的管理系统在权利要求书中公布了：1.一种基于印刷过程中材料批次可追溯的管理系统，其特征在于：包括： 数据采集模块：采集印刷设备在实际生产过程中的连续过程数据； 批次特征构建模块：基于连续过程数据，对每一材料批次在独立使用状态下的印刷行为，构建批次特征向量； 混合批次解耦识别模块：引入信号分离方法构建信号解混模型，将连续过程数据以及批次特征向量作为信号解混模型的输入，输出混合印刷过程中各材料批次的特征贡献度； 所述信号解混模型的构建： 将非负矩阵V分解为两个非负矩阵W和H的乘积； 设定约束：最小化观测矩阵V与重构矩阵WH之间的差异，使用欧几里得距离的平方，即矩阵的Frobenius范数平方来度量，从而构建如下损失函数： ； 采用基于梯度下降的乘法更新规则求解，通过引入自适应步长，确保在迭代更新过程中，矩阵H的非负性自动保持，更新公式推导如下： 计算损失函数对H的梯度，； 将梯度分解为正向部分与负向部分之和，并以此构造乘法更新因子，更新规则如下：；其中，表示矩阵的哈达玛积，除法为元素级操作； 将观测矩阵V、特征库矩阵W以及初始化后的矩阵H代入上述乘法更新规则，进行迭代计算，每一次迭代都会对H进行更新，减小损失函数的值； 迭代过程持续进行，直至满足预设的收敛条件时终止迭代； 当算法收敛后，最终得到的矩阵H即为信号解混模型的输出； 主导批次定位模块：根据输出混合印刷过程中各材料批次的特征贡献度，结合印刷过程中的时间序列以及贡献度分布，计算各批次材料在目标时间段的影响系数，基于影响系数确定主导批次。

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