湖北九峰山实验室徐爽获国家专利权
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龙图腾网获悉湖北九峰山实验室申请的专利氮化镓异质外延结构及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121218665B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511740448.1，技术领域涉及：H10D62/824；该发明授权氮化镓异质外延结构及其制备方法是由徐爽;潘磊设计研发完成，并于2025-11-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本氮化镓异质外延结构及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种氮化镓异质外延结构及其制备方法，所述外延结构包括衬底，以及依次设于所述衬底上的AlN种子层、AlGaN过渡层、位错湮灭层、GaN高阻层、不掺杂GaN层、空间隔离层、势垒层以及帽层。本发明能够提高氮化镓异质外延结构的耐压性能和晶体质量。
本发明授权氮化镓异质外延结构及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种氮化镓异质外延结构，其特征在于，所述外延结构包括衬底，以及依次设于所述衬底上的AlN种子层、AlGaN过渡层、位错湮灭层、GaN高阻层、不掺杂GaN层、空间隔离层、势垒层以及帽层； 其中，所述位错湮灭层包括多个层叠设置的超晶格单元，每个所述超晶格单元由AlNAlGaN超晶格层、AlNGaN超晶格层以及AlGaNGaN超晶格层中的至少两种组成。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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